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              激光脈沖沉積裝置報(bào)價(jià)值得信賴「沈陽(yáng)鵬程」

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              發(fā)布時(shí)間:2021-10-20 13:48  






              PLD450型脈沖激光鍍膜介紹

              以下是沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您一起分享的內(nèi)容,沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)脈沖激光沉積,歡迎新老客戶蒞臨。

              技術(shù)指標(biāo):

              極限真空度:≤6.7×10 Pa  

              恢復(fù)真空時(shí)間:從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min  

              系統(tǒng)漏率:6. 7×10-7Pa.L/S;  

              真空室:Ф450球型真空室 ,  

              基片尺寸:可放置4″可實(shí)現(xiàn)公轉(zhuǎn)換靶位描等基片加熱可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速5-60轉(zhuǎn)/分基片與蒸發(fā)源之間距離300-350mm可調(diào)。  

              二維掃描機(jī)械平臺(tái),執(zhí)行兩自由度掃描,控制的內(nèi)容主要有公轉(zhuǎn)換靶、靶自轉(zhuǎn)、樣品自轉(zhuǎn)、樣品控溫、激光束掃,

              質(zhì)量流量控制器1路  

              烘烤溫度:150℃數(shù)顯自動(dòng)熱偶控溫(高溫爐盤,數(shù)顯自動(dòng)熱偶控溫可加熱到800℃)



              脈沖激光沉積簡(jiǎn)介

              隨著現(xiàn)代科學(xué)和技術(shù)的發(fā)展,薄膜科學(xué)已成為近年來(lái)迅速發(fā)展的學(xué)科領(lǐng)域之一,是凝聚態(tài)物理學(xué)和材料科學(xué)的一個(gè)重要研究領(lǐng)域。功能薄膜是薄膜研究的主要方面,它不僅具有豐富的物理內(nèi)涵,而且在微電子、光電子、超導(dǎo)材料等領(lǐng)域具有十分廣泛的應(yīng)用。長(zhǎng)期以來(lái),人們發(fā)明了多種制膜技術(shù)和方法:真空蒸發(fā)沉積、離子束濺射、磁控濺射沉積、分子束外延、金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積、溶膠- 凝膠法等。上述方法各有特點(diǎn),并在一些領(lǐng)域得到應(yīng)用。沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司擁有先進(jìn)的技術(shù),我們都以質(zhì)量為本,信譽(yù)高,我們竭誠(chéng)歡迎廣大的顧客來(lái)公司洽談業(yè)務(wù)。但由于其各有局限性,仍然不能滿足薄膜研究的發(fā)展及多種薄膜制備的需要。隨著激光技術(shù)和設(shè)備的發(fā)展,特別是高功率脈沖激光技術(shù)的發(fā)展,脈沖激光沉積(PLD)技術(shù)的特點(diǎn)逐漸被人們認(rèn)識(shí)和接受

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              脈沖激光沉積的應(yīng)用領(lǐng)域

              沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售脈沖激光沉積,以下信息由沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供。

              脈沖激光沉積技術(shù)適合做的薄膜包括各種多元氧化物,氮化物,硫化物薄膜,金屬薄膜,磁性材料等。

              應(yīng)用領(lǐng)域:

              單晶薄膜外延(SrTiO3,LaAlO3)

              壓電薄膜(PZT,AlN,BiFeO3,BaTiO3)

              鐵電薄膜(BaTiO3,KH2PO4)

              熱電薄膜(SrTiO3)

              金屬和化合物薄膜電極(Ti,Ag,Au,Pt,Ni,Co,SrRuO3,LaNiO3,YZrO2,GdCeO2,LaSrCoFeO3)

              半導(dǎo)體薄膜(Zn(Mg)O,AlN,SrTiO3)

              高K介質(zhì)薄膜(HfO2,CeO2,Al2O3,BaTiO3,SrTiO3,PbZrTiO3,LaAlO3,Ta2O5)

              超導(dǎo)薄膜(YBa2CuO7-x,BiSrCaCuO)

              光波導(dǎo),光學(xué)薄膜(PZT,AlN,BaTiO3,Al2O3,ZrO2,TiO2)

              超疏水薄膜(PTFE)

              紅外探測(cè)薄膜(V2O5,PZT)



              脈沖激光沉積介紹

              脈沖激光沉積,是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材,生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的獨(dú)特之處是能量源(脈沖激光)位于真空室的外面。這樣,在材料合成時(shí),工作壓力的動(dòng)態(tài)范圍很寬,達(dá)到10-10 Torr ~ 100 Torr。【設(shè)備主要組成】設(shè)備由沉積腔室(單室球形或圓筒形)、樣品加熱轉(zhuǎn)臺(tái)、激光入射轉(zhuǎn)靶、激光窗、電源控制系統(tǒng)、激光束掃描系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)控制轉(zhuǎn)靶的旋轉(zhuǎn)、脈沖準(zhǔn)分子激光器等組成。通過(guò)控制鍍膜壓力和溫度,可以合成一系列具有獨(dú)特功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒。

              另外,PLD 是一種“數(shù)字”技術(shù),在納米尺度上進(jìn)行工藝控制(A°/pulse)。

              沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司以誠(chéng)信為首 ,服務(wù)至上為宗旨。公司生產(chǎn)、銷售脈沖激光沉積,公司擁有強(qiáng)大的銷售團(tuán)隊(duì)和經(jīng)營(yíng)理念。想要了解更多信息,趕快撥打圖片上的熱線電話!



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