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發(fā)布時(shí)間:2020-07-20 12:48  





ZF500有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)
廣泛應(yīng)用于高校材料、物理、化學(xué)、電子、能源等相關(guān)學(xué)科以及科研院所制備高質(zhì)量功能薄膜、蒸鍍電極等,半導(dǎo)體、有機(jī)EL、OLED顯示研究與開(kāi)發(fā)領(lǐng)域。
系統(tǒng)組成:
主要由真空室、蒸發(fā)源、樣品臺(tái)、 真空抽氣及測(cè)量、膜厚測(cè)試 、電控系統(tǒng)組成。
技術(shù)指標(biāo):
極限真空度4×10-5Pa,系統(tǒng)漏率:1.2×10-7PaL/S; 恢復(fù)真空時(shí)間:40分鐘可達(dá)6.0×10 Pa-4
真空室:D形真空室,尺寸350× 400mm
樣品臺(tái):尺寸為4英寸4平面樣品;
有機(jī)束源爐:數(shù)量:4支,標(biāo)準(zhǔn)型600度控溫;
樣品架:安裝加熱爐。基片的溫度從室溫至600℃(硅片上表面的溫度,只需標(biāo)定一次即可)
4套擋板系統(tǒng):動(dòng)密封手動(dòng)控制;
樣品擋板(1套),磁力撥叉,
膜厚控制儀:膜厚測(cè)量范圍0-999999?
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