包頭鈣鈦礦鍍膜設備公司品牌企業 沈陽鵬程有限公司

ZF500有機蒸發鍍膜機

廣泛應用于高校材料、物理、化學、電子、能源等相關學科以及科研院所制備高質量功能薄膜、蒸鍍電極等，半導體、有機EL、OLED顯示研究與開發領域。

系統組成:

主要由真空室、蒸發源、樣品臺、 真空抽氣及測量、膜厚測試 、電控系統組成。

技術指標：

極限真空度4×10-5Pa，系統漏率：1.2×10-7PaL/S； 恢復真空時間：40分鐘可達6.0×10 Pa-4

真空室：D形真空室，尺寸350× 400mm

樣品臺：尺寸為4英寸4平面樣品；

有機束源爐：數量：4支，標準型600度控溫；

樣品架：安裝加熱爐。基片的溫度從室溫至600℃（硅片上表面的溫度，只需標定一次即可）

4套擋板系統：動密封手動控制；

樣品擋板（１套），磁力撥叉，

膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999? 

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多源有機無機蒸發?系統鈣鈦礦鍍膜設備公司

多源有機無機蒸發系統

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主要用途：

用于納米級單層及多層金屬膜、 半導體膜等新材料的制備。廣泛應用 于大專院校的薄膜材料科研。

由真空室、蒸發源、樣品臺、 真空測量、膜厚測試、電控系統組成。

極限真空度5.0×10-5Pa，系統漏率：1×10-7PaL/S； 恢復真空時間：40分鐘可達6.6×10 Pa

真空室：D形真空室，尺寸350× 380mm 

樣品臺：尺寸為4英寸厚度3mm的平面樣品；

電極：數量：4支水冷結構；直徑Φ20㎜

樣品基片:，基片在鍍膜位置實現自轉。基片的溫度從室溫至600℃

4套擋板系統：基片擋板與源擋板；靶擋板共有3套， 樣品擋板（１套）

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999? 

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統。

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電阻蒸發鍍膜機的結構以及特點

結構和特點：結構可為立臥式雙開門結構，成膜速率快，色澤鮮亮，膜層不易受污染，可獲得致密性好、純度高、膜厚均勻的膜層，不產生廢液、廢水，可避免對環境污染，屬環保設備。

沈陽鵬程真空技術有限責任公司本著多年電阻熱蒸發鍍膜產品行業經驗，專注電阻熱蒸發鍍膜產品研發定制與生產，先進的電阻熱蒸發鍍膜產品生產設備和技術，建立了嚴格的產品生產體系，想要更多的了解，歡迎咨詢圖片上的熱線電話！！！