氣相化學沉積設備公司價格合理“本信息長期有效”

化學氣相沉積的分類

化學氣相沉積的方法很多，如常壓化學氣相沉積(Atmospheric pressure CVD，APCVD)、低壓化學氣相沉積(Low pressure CVD，LPCVD)、超高真空化學氣相沉積(Ultrahigh vacuum CVD，UHVCVD)、激光化學氣相沉積(Laser CVD，LCVD)、金屬有機物化學氣相沉積(metal-organic CVD，MOCVD)，等離子體增強化學氣相沉積（Plasma enhanced CVD，PECVD）等。等離子體化學氣相沉積沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業脈沖激光沉積供應商，我們為您帶來以下信息。

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物理氣相沉積和化學氣相沉積的區別

化學氣相沉積過程中有化學反應，多種材料相互反應，生成新的的材料。

物理氣相沉積中沒有化學反應，材料只是形態有改變。

物理氣相沉積技術工藝過程簡單，對環境改善，無污染，耗材少，成膜均勻致密，與基體的結合力強。

化學雜質難以去除。優點可造金屬膜、非金屬膜,又可按要求制造多成分的合金膜,成膜速度快,膜的繞射性好

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化學氣相沉積的特點有哪些？

?  高溫石英管反應器設計

?  溫度范圍：室溫到1100度

?  多路氣體準確控制

?  標準氣壓計

?  易于操作

?  可配機械泵實現低壓TCVD

?  可用于制備金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜

?  液體前驅體噴頭

沈陽鵬程真空技術有限責任公司本著多年化學氣相沉積行業經驗，專注化學氣相沉積研發定制與生產，先進的化學氣相沉積生產設備和技術，建立了嚴格的產品生產體系，想要更多的了解，歡迎咨詢圖片上的熱線電話！！！