制版報價優(yōu)選企業(yè)【蘇州制版】

公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光刻掩模版通常用石英玻璃做為化學(xué)反應(yīng)，選用方解石是因為其的近紫外線穿透率。掩模版遮光一部分用Cr，因此有時候也叫鉻板。選用燈的g線應(yīng)i線，在于你常用的光刻膠，每個光刻膠產(chǎn)品介紹都是列舉其所比較敏感的納米段。 

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。

光罩（英文：Reticle, Mask），在制作IC的過程中，利用光蝕刻技術(shù)，在半導(dǎo)體上形成圖型，為將圖型於晶圓上，必須透過光罩作用的原理，類似于沖洗照片時，利用底片將影像至相片上。

在容柵電子光學(xué)微影技術(shù)性中，光罩表層的擋光圖樣會與基鋼板上的光阻層觸碰磨擦，非常容易促使擋光圖樣損耗促使光罩使用期減少。另一個，當(dāng)施膠光亮阻層的基鋼板表層并不是十分整平時，光罩與光阻層會造成不確定性的間隙與間距，而導(dǎo)致光源的光學(xué)散射與繞射，從而導(dǎo)致曝i光的規(guī)格偏差，而且導(dǎo)致光阻層淺部一部分的側(cè)面曝i光范疇擴張，因此沒法制做出深奧長寬比的光阻構(gòu)造。利用本實用新型刻出的硅片，在高壓測試時，能防止漏電打火，安全性能具有較大提高。