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發(fā)布時(shí)間:2021-04-19 06:58  






化學(xué)拋光(銅化學(xué)拋光劑)
機(jī)械拋光是利用機(jī)械壓力和局部摩擦產(chǎn)生高溫作用而獲得平滑的非晶型面。化學(xué)拋光與機(jī)械拋光不同,前者是利用化學(xué)溶液對金屬表面起溶解作用,而這種溶解作用是基于對金屬表面凸起部分溶解速度遠(yuǎn)比凸陷部分快的假設(shè)的基本之上的。化學(xué)拋光比機(jī)械拋光相對優(yōu)越,表面在其操作方便、設(shè)備簡單、費(fèi)用低且節(jié)省電力。
化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備,可以拋光形狀復(fù)雜的工件,可以同時(shí)拋光很多工件,。化學(xué)拋光的核心問題是拋光液的配制。化學(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm。
化學(xué)拋光操作步驟
1:試樣準(zhǔn)備:試樣經(jīng)精磨光后清洗。
2:配置化學(xué)拋光溶液。化學(xué)拋光溶液應(yīng)在燒杯中調(diào)配,根據(jù)試樣材料選擇化學(xué)拋光液配方,配溶液時(shí)應(yīng)用蒸餾水,藥品用化學(xué)純試劑。某些不易溶于水的藥品需要加熱 溶液才能溶解。和腐蝕性很強(qiáng),調(diào)配時(shí)需注意安全。化學(xué)拋光溶液經(jīng)使用之后,溶液內(nèi)金屬離子增多,拋光作用減弱,如果發(fā)現(xiàn)作用緩慢,氣泡減 少,應(yīng)更換新藥液。
3:試樣用竹夾或者木夾夾住浸入拋光液中,一邊攪動并適時(shí)取出觀察至達(dá)到拋光要求后取出。
4:化學(xué)拋光結(jié)束之后,試樣應(yīng)立即清洗、吹干。
階段是化學(xué)拋光時(shí)金屬表面現(xiàn)象的幾何凸凹的整平,去除較粗糙的表面不平度,獲得平均為數(shù)微米到數(shù)十微米的光潔度;第二階段是晶界附近的結(jié)晶不完整部分的平滑化,去除微小的不平,在0.1~0.01μm,相當(dāng)于光波長的范圍。可將階段稱為宏觀拋光或平滑化,把第二階段稱為微觀拋光或光澤化。
為什么要選擇化學(xué)拋光,而不是機(jī)械拋光或電拋光?
答:(1)可用于機(jī)械拋光甚感困難或無法加工的制件。如形狀、結(jié)構(gòu)比較復(fù)雜,具有不規(guī)則凹、凸結(jié)構(gòu)的制件,狹小縫隙或孔洞的內(nèi)表面,精細(xì)薄小的制件等。
(2)一般為簡單的手工操作,操作方法簡單,容易掌握。
(3)拋光后的制件,表面粗糙度非常均勻一致,其均勻性超過機(jī)械拋光和電拋光。
(4)作業(yè)時(shí)勞動強(qiáng)度小,無噪聲和粉塵污染。