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材料特性：非常高的強(qiáng)度、重量比優(yōu)良的抗腐蝕性、難以進(jìn)行冷加工、良好的可焊接性、大約比鋼輕40%，比鋁重60%、低導(dǎo)電性、低熱脹率、高熔點(diǎn)。

典型用途： 高爾夫球桿、網(wǎng)球拍、便攜式電腦、照相機(jī)、行李箱、手術(shù)植入物、飛行器骨架、化學(xué)用具以及海事裝備等。另外，鈦也被用作紙張、繪畫(huà)以及塑料等所需的白色顏料。

利用現(xiàn)代物理、化學(xué)、金屬學(xué)和熱處理等學(xué)科的技術(shù)來(lái)改變零件表面的狀況和性質(zhì)，使之與心部材料作優(yōu)化組合，以達(dá)到預(yù)定性能要求的工藝方法，稱(chēng)為表面處理工藝。

表面處理的作用：提高表面耐蝕性和耐磨性，減緩、消除和修復(fù)材料表面的變化及損傷；使普通材料獲得具有特殊功能的表面；節(jié)約能源、降低成本、改善環(huán)境。

物理氣相沉積（PVD）

物理氣相沉積是指在真空條件下，用物理的方法，使材料汽化成原子、分子或電離成離子，并通過(guò)氣相過(guò)程，在材料表面沉積一層薄膜的技術(shù)。

物理沉積技術(shù)主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍?nèi)N基本方法。

物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛；工藝簡(jiǎn)單、省材料、無(wú)污染；獲得的膜層膜基附著力強(qiáng)、膜層厚度均勻、致密、少等優(yōu)點(diǎn)。

廣泛用于機(jī)械、航空航天、電子、光學(xué)和輕工業(yè)等領(lǐng)域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導(dǎo)電、絕緣、光學(xué)、磁性、壓電、滑潤(rùn)、超導(dǎo)等薄膜。

氣相沉積技術(shù)是指將含有沉積元素的氣相物質(zhì)，通過(guò)物理或化學(xué)的方法沉積在材料表面形成薄膜的一種新型鍍膜技術(shù)。

根據(jù)沉積過(guò)程的原理不同，氣相沉積技術(shù)可分為物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)兩大類(lèi)。

單色、漸變色：拋光/噴砂/拉絲→除油→陽(yáng)極氧化→中和→染色→封孔→烘干

②拋光/噴砂/拉絲→除油→陽(yáng)極氧化1 →鐳雕→陽(yáng)極氧化2 →封孔→烘干

技術(shù)特點(diǎn):

1、提升強(qiáng)度,

3、實(shí)現(xiàn)無(wú)鎳封孔，滿(mǎn)足歐、美等國(guó)家對(duì)無(wú)鎳的要求。

技術(shù)難點(diǎn)及改善關(guān)鍵點(diǎn)：

陽(yáng)極氧化的良率水平關(guān)系到最終產(chǎn)品的成本，提升氧化良率的重點(diǎn)在于適合的氧化劑用量、適合的溫度及電流密度，這需要結(jié)構(gòu)件廠商在生產(chǎn)過(guò)程中不斷探索，尋求突破。