您好,歡迎來到易龍商務網!
【廣告】
發布時間:2020-08-25 06:45  





真空七彩電鍍生產廠家的真空鍍膜根據鍍膜氣相金屬產生的方式和沉積方式的不同,分為熱蒸發鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝。其中,磁控濺射法由于鍍膜層和基材的結合力強,鍍膜層致密、均勻等優點,更具有技術優勢。
合金型鍍膜材料有鎳-鉻、鎳-鐵、鐵-鈷、金-銀-金等;金屬化合物有二氧化硅、二氧化鈦、二氧化希等。其中,尤以鋁應用多普遍。這主要因為鋁蒸發溫度低、易操作、鋁鍍層對塑料附著力好、對紫外線和氣體阻隔性強、價格低廉。
1、真空電鍍的鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um),能夠嚴格制作出啤件表面的形。
2、真空電鍍工作電壓不是很高(200V),操作方便,但設備較昂貴。
3、蒸鍍鍋瓶容積小,電鍍件出數少,生產效率較低。
4、只限于比鎢絲熔點低的金屬(如鋁、銀、銅、金等)鍍飾。
5、真空電鍍對鍍件表面質量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來彌補工件表面缺陷。
6、真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕ABS、PE、PP、PVC、PA、PMMA等。
對于減薄后的基板,晶圓經過一面的電鍍后,會產生一個大的彎曲,這使得電鍍晶圓另一面時更加困難。在基板兩側和通孔內用一種單一的工序電鍍,也可以大大簡化Das等人討論的3D結構轉接板的加工。參考文獻2介紹了用導電膠填充轉接板通孔的工藝。對基板雙面及通孔電鍍互連,不僅能簡化工藝流程,而且會提供更好的電氣和熱傳導性能。你都了解了嗎?
電鍍層的要求:
1、涂層與賤金屬之間以及涂層與涂層之間應具有杰出的附著力。
2、涂層應小心結晶,光滑均勻,厚度均勻。
3、涂層應具有規則的厚度和盡可能少的孔隙。
4、涂層應具有規則的目標,如亮度、硬度、電導率等。