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              中山鍍金蝕刻加工詢問報價

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              發布時間:2020-07-25 15:32  








              興之揚腐蝕不銹鋼網片小編為您解答鋼蝕刻工藝中的滾涂原理:

              使膠輥與鋼輪平行靠緊,并勻速向內旋轉,油膜從膠管噴至鋼輪上,均勻調節膠輥與鋼輥之間的緊密度,就可以控制黏附在膠輥上的油墨厚度與均勻度;興之揚的材料進貨渠道都是正規大的鋼材壓延廠直供,材質穩定,環保達標,萬不可為節省小成本,造成大失敗。鋼片由輸送帶往前均速推進,與膠輥適當接觸,膠輥上的油墨就均勻的轉印到鋼片表面上。在金屬蝕刻的防蝕層制作中涂裝技術應用較多,常用的涂裝方法有絲印法、浸涂法、噴涂法、電泳涂裝等。涂覆的防蝕層表面應均勻完整、無砂眼、白點等,如發現防蝕層有上述質量缺陷,且這些缺陷又在圖文線條附近,特別是精細圖文線條,應退除防蝕層重新涂覆。工件上噴涂的感光油膜干燥后,在進行曝光之前要進行質量檢查。檢查項目包括油膜表面無劃傷、氣孔,油膜的滾涂均勻性等,如達不到這個要求應將整個板面的油墨退掉重新滾涂。



              東莞市興之揚電子科技有限公司成立于2010年,是專業生產加工精密金屬元件的加工制造與貿易相結合的工貿高新科技企業。公司現擁有先進的自動化光電蝕刻工藝生產線。公司擁有6條先進的蝕刻生產線及ISO9001:2008的品質管控體系,產品廣泛應用于:家電、電子通訊、精密五金、石油化工、精密工程應用元件等行業,能滿足客戶臨時的和超大量的訂單,日蝕刻面積達1500平方米,月生產能力達5000萬只(片){視產品類型而定}。在質量管控方面,公司擁有一批敬崗愛業的專業技術人員,各道工序專人把關,確保產品質量能達到客戶的要求控制不良率,力求做到“生產出的產品合格率達99%,出廠的產品合格率達100%”。二、新產品蝕刻設計開發變更靈活,費用低,可以實現金屬表面的半蝕刻刻,增加公司LOGO,實現品牌化生,以防盜用。

              我們力爭設備、工藝、技術、質量、管理等諸方面都能達到國內同行業的高水準。我們的主要產品:光電金屬零件、手機金屬元件、復印機消靜電帶、光電編碼器金屬碼盤、VFD用柵網、蟲網金屬光柵、縫紉機金屬碼盤、主軸光柵、步進電機光柵、吸塵器不銹鋼網片、腐蝕不銹鋼網片、金屬蝕刻網片、吹風機鋼網片、吹風機蝕刻不銹鋼網、SMT蝕刻不銹鋼網等。FPC補強鋼片、各類濾網,榨汁網,茶網。機械表金屬表面。我們一貫恪守以誠為本的經營理念,遵循以人為本的企業文化,追求用戶至上的高服務水準,希望我們的真誠能換來更多客戶的支持與指導,并與您共度坎坷而不懈怠,攜手同進,共創美好明天!興之揚是一家有實力的精密金屬蝕刻加工廠家,至今已有3000多家國內外企業與興之揚進行合作,歡迎您來電洽談。


              鎳元素在蝕刻不銹鋼中的主要作用

              鎳元素在蝕刻不銹鋼中的主要作用在于它改變了鋼的晶體結構。在蝕刻不銹鋼中增加鎳的一個主要原因就是形成奧氏體晶體結構,從而改善諸如可塑性、可焊接性和韌性等不銹鋼的屬性,所以鎳被稱為奧氏體形成元素。普通碳鋼的晶體結構稱為鐵氧體,呈體心立方(BCC)結構,加入鎳,促使晶體結構從體心立方(BCC)結構轉變為面心立方(FCC)結構,這種結構被稱為奧氏體。然而,鎳并不是獨一具有此種性質的元素。常見的奧氏體形成元素有:鎳、碳、氮、錳、銅。這些元素在形成奧氏體方面的相對重要性對于猜測不銹鋼的晶體結構具有重要意義。所謂目標性,就是通過某一工藝流程的全過程有一個明確的輸出,或者說要達到某一特定的目的。目前,人們已經研究出良多公式來表述奧氏體形成元素的相對重要性,聞名的是下面的公式:

              奧氏體形成能力=Ni% 30C% 30N% 0.5Mn% 0.25Cu%

              從這個等式可以看出:碳是一種較強的奧氏體形成元素,其形成奧氏體的能力是鎳的30倍,但是它不能被添加到耐侵蝕的不銹鋼中,由于在焊接后它會造成敏化侵蝕和隨后的晶間侵蝕題目。氮元素形成奧氏體的能力也是鎳的30倍,但是它是氣體,想要不造成多孔性的題目,只能在不銹鋼中添加數目有限的氮。添加錳和銅會造成煉鋼過程中耐火生命減少和焊接的題目。25Cu%從這個等式可以看出:碳是一種較強的奧氏體形成元素,其形成奧氏體的能力是鎳的30倍,但是它不能被添加到耐侵蝕的不銹鋼中,由于在焊接后它會造成敏化侵蝕和隨后的晶間侵蝕題目。



              興之揚吹風機鋼網片小編給大家介紹濕式蝕刻對溶液濃度及溫度有什么要求:

              濕式蝕刻的速率通??山逵筛淖內芤簼舛燃皽囟扔枰钥刂?。溶液濃度可改變反應物質到達及離開待蝕刻物表面的速率,一般而言,當溶液濃度增加時,蝕刻速率將會提高。而提高溶液溫度可加速化學反應速率,進而加速蝕刻速率。

              濕式蝕刻除了溶液的選用外,選擇適用的屏蔽物質亦是十分重要的,它必須與待蝕刻材料表面有很好的附著性、并能承受蝕刻溶液的侵蝕且穩定而不變質。而光阻通常是一個很好的屏蔽材料,且由于其圖案轉印步驟簡單,因此常被使用。但使用光阻作為屏蔽材料時也會發生邊緣剝離或龜裂的情形。邊緣剝離乃由于蝕刻溶液的侵蝕,造成光阻與基材間的黏著性變差所致。解決的方法則可使用黏著促進劑來增加光阻與基材間的黏著性,如Hexamethyl-disilazane(HMDS)。龜裂則是因為光阻與基材間的應力差異太大,減緩龜裂的方法可利用較具彈性的屏蔽材質來吸收兩者間的應力差。蝕刻不銹鋼生產技術發展與展望:自1958年日本引進森吉米爾20輥寬帶鋼軋機開始批量生產不銹鋼薄板以來已過了半個世紀,其間日本國內的不銹鋼需求隨著經濟發展得到穩步增長。

              蝕刻化學反應過程中所產生的氣泡常會造成蝕刻的不均勻性,氣泡留滯于基材上阻止了蝕刻溶液與待蝕刻物表面的接觸,將使得蝕刻速率變慢或停滯,直到氣泡離開基材表面。因此在這種情況下會在溶液中加入一些催化劑增進蝕刻溶液與待蝕刻物表面的接觸,并在蝕刻過程中予于攪動以加速氣泡的脫離。一般帶材或稱卷材,寬度20-610mm,可根據客戶需要進行分條處理,最窄寬度可分為5mm,我們蝕刻加工的不銹鋼帶在300寬以上或最少需要達到150mm較好。



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