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              發布時間:2020-07-24 18:07  






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              )雜質的種類和混入途徑

                   污染鍍鎳溶液的雜質大致可以分成,銅,鋅,鐵等金屬雜質;根,磷酸根等陰離子雜質;油脂類,光亮劑分解產物等有機雜質;以及活性炭粒等固體型雜質。一般雜質的混入主要途徑有電鍍原材料的帶入,工件在鍍槽中的溶解,其他工序溶液 殘余帶入,新設備附帶雜質帶入等[1]。此外,采用閉路循環系統雖有利于電鍍藥品的回收和減少排水處理費用,但卻造成雜質的濃縮,積蓄的問題。因此,電鍍用水也以使用雜質少的去離子水為宜。



                電解用的陰極(假陰極)面積要盡可能大:用電解法去除雜質,大多是在陰極表面上進行的,所以增大陰極面積,可以提高去除雜質的效率,同時為了在不同的電流密度部位電解去除鍍液中不同雜質或同一種雜質,要求電解用的陰極做成凹凸的表面(如瓦楞形),這樣可以提高電解處理的效果。但陰極上的凹處不宜太深,以防止電流密度過小而使雜質不能在這些部位沉積或還原。[5]

                  電解過程中,要定時刷洗陰極:由于電解處理的時間一般都比較長,在長時間的電解過程中,陰極上可能會產生疏松的沉積物,它的脫落會重新沾污鍍液,所以在電解一段時間后,應將陰極取出刷洗,把陰極上疏松或不良的沉積物刷去后再繼續電解。





                高pH沉淀法適用于弱酸性的鍍液,如鍍鎳、銨鹽鍍鋅和無銨氯化物鍍鋅液等。處理時,究竟用什么堿提高鍍液的pH值,應根據鍍液的具體情況。一般鍍鎳液用NiCO3提高PH值,在特殊情況下也可使用NaOH。
                 在向鍍液中加堿提高pH前,應將鍍液加熱至65oC~70oC,以防止在提高pH時生成的氫氧化物形成膠體,使之容易過濾而除去沉淀。

                以上為通用的除雜方法,另針對特定的某種雜質,我們可以針對性的選擇相應的處理方法,通常鍍鎳液中常見的雜質有銅雜質,鋅雜質,鉛雜質,鐵雜質,鉻雜質,根等。各種雜質對應的處理方法如下

              1.銅雜質:

              混入途徑:落入鍍槽中的銅零件(或鍍銅件)的溶解,從前道工序帶入鍍銅液,陽極導電桿銅屑或銅的氧化物殘差的脫落。




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