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佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務實，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響：

靶基距：靶基距是影響成膜速率的重要因素之一，隨著靶基距增加，被濺射材料射向基片時與氣體分子碰撞的次數(shù)增多，同時等離子體密度也減弱，動能減少，沉積速率降低，但膜層外觀較好。靶基距太小，沉積太快，工件溫升大，膜層外觀差。

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鍍膜時間：膜層厚度隨鍍膜時間的增加而增加,但不是線形增加,當厚度達到一定的時候,增加速度會變慢后基本停止,而且鍍膜時間越長膜層應力越大.外觀越差。

送氣方式和氣體流量：采用從少到多逐步增加氣體流量的方式加氣使膜層從金屬逐漸過渡到化合物是很好的一種加氣方式，如做黑膜這樣還可以延緩靶，使顏色做得更深。

離子鍍時，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動，習而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此，這種方法非常適合于鍍復零件上的內(nèi)孔、凹槽0窄縫。等其他方法難鍍的部位。