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曝光及顯影設備還包括主體曝光機10、基板輸送機構50及傳送裝置40。主體曝光機10用于先對基板S的主體進行曝光。傳送裝置40用于將來自該主體曝光機10的基板S傳送至基板輸送機構50,傳送裝置40例如為機械手臂。基板輸送機構50用于將基板S輸送至顯影裝置30，基板輸送機構50例如為輸送輥。由于該基板的長邊邊緣容易存在殘留光阻，因此，本公開通過設置對應于基板的長邊邊緣的邊緣曝光裝置20，即可去除絕大部分的殘留光阻。


在連續的板子蝕刻中，蝕刻速率越一致，越能獲得均勻蝕刻的板子。要達到這一要求，必須保證蝕刻液在蝕刻的全過程始終保持在的蝕刻狀態。這就要求選擇容易再生和補償，蝕刻速率容易控制的蝕刻液。選用能提供恒定的操作條件和對各種溶液參數能自動控制的工藝和設備。通過控制溶銅量，PH值，溶液的濃度，溫度，溶液流量的均勻性(噴淋系統或噴嘴以及噴嘴的擺動)等來實現。

工件經前處理合格后，即可進行氧化。在該工序中主要控制氧化電流及氧化時間，保證批量產品氧化質量的一致性。

①生產中必須保證導電極桿和電接頭光潔干燥，確保導電性能良好。

②每天檢查設備完好情況，保證工作缸溶液都處于工藝控制范圍。批量生產的氧化缸中H2SO4及All濃度每天都要分析，協助工藝工程師做好氧化缸的調節工作。