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真空鍍膜技術優點

鍍層附著性能好：普通真空鍍膜時，在工件表面與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層，好似截然分開。而離子鍍時，離子高速轟擊工件時，能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現象發生,可見附著多么牢固，膜層均勻，致密。

繞鍍能力強：離子鍍時，蒸發料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優越得多。

因此，這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著規定的航線飛抵其活動半徑范圍內的任何地方。

鍍層質量好：離子鍍的鍍層組織致密、無孔、無氣泡、厚度均勻。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復，不致形成金屬瘤。象螺紋一類的零件也能鍍復，有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數）、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

真空鍍膜機鍍鋁時,應該注意哪些事項

用真空鍍膜設備鍍鋁膜，基本工藝流程為：預真空─離子清洗─鍍鋁─離子轟擊─鍍保護膜─放氣。預真空對鍍膜室抽真空至5×10，2Pa時，充入Ar氣430mL，利用2個適當的電極間的低壓輝光放電產生的離子轟擊達到清洗和輔助預熱鍍膜基底的作用，轟擊時間為150s;鍍鋁部分蒸發器快速升至高溫，鋁絲從預熱、熔化、蒸發鍍鋁到鍍鋁完成的時間為30s多;采用二次離子轟擊，去除膜表面粒狀顆粒，使膜層更加致密，轟擊時間為80s;鍍保護膜時間為(200±50)s，真空度為3×10?2Pa，由充入的硅油流量加少量Ar氣來控制真空度，硅油流量由調節閥控制，直至放氣結束。

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因有哪些

由于殘余氣體的存在，不但影響膜的純度及質量，還會產生。所以在生產中要選用高純度的氣為工作氣體，嚴格控制真空室的漏氣速率，以減小殘余氣體對原片及膜層的污染。將殘余氣體的壓力控制在10Pa以下，要經常清理加熱室、玻璃過渡室、濺射室的環境，減少擴散泵返油對玻璃的污染。同時可適當提高陰極的濺射功率，以增加粒子動能及擴散能力，這將有利于清除被鍍膜玻璃表面的殘留物質，減少鍍膜玻璃的。鍍膜玻璃膜的膜層均勻度一般地講，同一基片上膜層厚薄不同，就稱之為膜層不均勻。引起鍍膜玻璃膜層不均勻的原因是多方面的。磁控濺射靶的水平磁場強度（B）對膜層均勻度的影響磁控濺射的關鍵參數之一是與電場垂直的水平磁場強度B，因為水平磁場強度B要求在陰極靶的表面是一個均勻的數值。而實際生產過程中值是隨著使用方法及時間的推移，產生一定的變化，而出現不均勻現象。我們從濺射過的陰極靶材的刻蝕區的變化情況就可以驗證。

熱成型模真空鍍膜機有什么優勢：

熱擠壓模：熱擠壓過程中所使用的鐵合金與非鐵合金工具必須經受因腐蝕與超高溫而產生的高成形壓力，嚴重的磨粒磨損以及粘著磨損。HC物理氣相沉積涂層與HC化學氣相沉積涂層展現了其高韌性，耐磨性，抗腐蝕性以及熱穩定性，而這些性能恰恰能夠明顯地提高工具的使用效率。HC化學氣相沉積涂層通常適用于擁有復雜幾何圖形和較大長寬比的工具。HC08,HC10或HC29涂層適用于公差要求不高的工具，而結合了滲氮處理的HC35,HC22或HC30涂層適用于公差要求很高的熱擠壓工具。

熱鍛模：熱鍛造過程中所使用的工具必須經受高成形壓力，嚴重的磨粒磨損以及粘著磨損，并且需要經歷要求嚴苛的熱環境條件。另外，它們必須經受高水平的沖擊，因此地提升工具性能變得更具挑戰性。HC物理氣相沉積涂層具有高韌性，耐磨性，熱穩定性以及抗擦傷性，而這些性能恰恰能夠提高工具的使用效率以及鐵合金與非鐵合金產品的質量。

結合了滲氮處理的HC22,HC25與HC30涂層適用于熱鍛造工具。