清溪手機殼曝光顯影設計歡迎來電

倒出顯影液，用清水沖洗 30 秒，然后注入柯達F-5酸性定影液，攪拌 10 分鐘，完成定影；倒出定影液，取出沖洗加工好的膠卷，用清水沖洗干凈，涼干。正片成像；了解放大機的基本結構及使用方法；選擇拍攝的底片，將底片放入底片夾內，乳劑面向下；開啟曝光定時器電源開關，按下定時器調焦按鈕，在放大機上進行調焦，待影像清晰后，調焦完畢，關閉調焦按鈕；


從光能量的定義公式可知，總曝光量E是光強度I和曝光時間T的乘積。若光強度I不變，則曝光時間T就是直接影響曝光總量的重要因素。曝光不足時，由于聚合不徹底，在顯影過程中，膠膜溶脹變軟，導致線條不清晰甚至膜層脫落，造成膜與銅結合不良；顯影不良：貼好的干膜后的覆銅箔層壓板經曝光之后，還須經過顯影機顯影，將未曝光的干膜保持原成份，在顯影機內與顯影液發生下列反應。


若曝光過度，會造成顯影困難，也會在電鍍過程中產生起翹剝離，形成滲鍍。所以，解決的工藝措施就是嚴格控制曝光時間，每種類型的干膜在起用時應按工藝要求進行測量。如采用瑞士頓21級光楔表，級差0.15，以控制6-9級為宜。曝光時間過長。當曝光過度時，紫外光透過照相底片上透明部分并產生折射、衍射現象，照射到照相底片不透明部分下的干膜處，使本來不應該發生光聚合反應的該部分干膜，被部分曝光后發生聚合反應，顯影時就會產生余膠和線條過細的現象。因此，適當的控制曝光時間是控制顯影效果的重要條件。