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大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹

大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對(duì)大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規(guī)模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線（氣體種類包括NH3），發(fā)光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產(chǎn)線（氣體種類包括HCL）等行業(yè)。同時(shí)，當(dāng)?shù)叵酪?guī)范建議甚至要求將主要的氣體源如氣瓶、杜瓦瓶和液體儲(chǔ)槽放置在工作區(qū)外的指1定區(qū)域，然后將氣體通過(guò)管道系統(tǒng)輸送至試驗(yàn)室內(nèi)。它們的投資規(guī)模巨大，采用1先進(jìn)的工藝制程設(shè)備，用氣需求量大，對(duì)穩(wěn)定和不間斷供應(yīng)、純度控制和安全生產(chǎn)提出嚴(yán)格的要求。

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試驗(yàn)室供氣需求

目前大多數(shù)試驗(yàn)室中的各種分析儀器如氣相色譜儀、氣相色譜質(zhì)譜儀、液相色譜質(zhì)譜儀、原子吸收分光光度計(jì)、原子熒光光度計(jì)、等離子發(fā)射光譜儀、電感耦合等離子質(zhì)譜儀等都需要連續(xù)使用高純載氣和燃?xì)猓虼嗽囼?yàn)室的安全、連續(xù)、穩(wěn)定運(yùn)行需要我們考慮如何將這些氣體供到各試驗(yàn)室中放置的分析儀器。電子行業(yè)常用的特氣超過(guò)三十余種，按危險(xiǎn)性質(zhì)可分為不燃?xì)怏w、可燃?xì)怏w、氧化性氣體、腐蝕性氣體、毒性氣體等。

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電子特氣管道系統(tǒng)氦檢漏方法

特氣系統(tǒng)氣體管道氦檢漏的順序宜采用內(nèi)向檢漏法、閥座檢漏法、外向檢漏法。

1、內(nèi)向檢漏法(噴氦法)采用管道內(nèi)部抽真空，外部噴氦氣的方法檢漏，測(cè)試管路系統(tǒng)的泄漏率。

2、閥座檢漏法采用閥門上游充氦氣，下游抽真空的方法檢漏，測(cè)試管路系統(tǒng)的泄漏率。

3、外向檢漏法(吸槍法)應(yīng)采用管路內(nèi)部充氦氣或氦氮混合氣，外部應(yīng)采用吸槍檢查漏點(diǎn)的方法檢漏，測(cè)試管路系統(tǒng)的泄漏率。