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大宗特氣供氣系統介紹

大宗特氣供氣系統主要針對大規模量產的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽能電池生產線（氣體種類包括NH3），發光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產線（氣體種類包括HCL）等行業。同時，當地消防規范建議甚至要求將主要的氣體源如氣瓶、杜瓦瓶和液體儲槽放置在工作區外的指1定區域，然后將氣體通過管道系統輸送至試驗室內。它們的投資規模巨大，采用1先進的工藝制程設備，用氣需求量大，對穩定和不間斷供應、純度控制和安全生產提出嚴格的要求。

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試驗室供氣需求

目前大多數試驗室中的各種分析儀器如氣相色譜儀、氣相色譜質譜儀、液相色譜質譜儀、原子吸收分光光度計、原子熒光光度計、等離子發射光譜儀、電感耦合等離子質譜儀等都需要連續使用高純載氣和燃氣，因此試驗室的安全、連續、穩定運行需要我們考慮如何將這些氣體供到各試驗室中放置的分析儀器。電子行業常用的特氣超過三十余種，按危險性質可分為不燃氣體、可燃氣體、氧化性氣體、腐蝕性氣體、毒性氣體等。

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電子特氣管道系統氦檢漏方法

特氣系統氣體管道氦檢漏的順序宜采用內向檢漏法、閥座檢漏法、外向檢漏法。

1、內向檢漏法(噴氦法)采用管道內部抽真空，外部噴氦氣的方法檢漏，測試管路系統的泄漏率。

2、閥座檢漏法采用閥門上游充氦氣，下游抽真空的方法檢漏，測試管路系統的泄漏率。

3、外向檢漏法(吸槍法)應采用管路內部充氦氣或氦氮混合氣，外部應采用吸槍檢查漏點的方法檢漏，測試管路系統的泄漏率。