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發布時間：2021-09-18 18:30

PLD脈沖激光沉積系統介紹

PLD是將脈沖激光透過合成石英窗導入真空腔內照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態，然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準穩定狀態的組成和構造的人工合成新材料。

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脈沖激光沉積選件介紹

沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業生產、銷售脈沖激光沉積，我們公司堅持用戶為上帝，想用戶之所想，急用戶之所急，以誠為本，講求信譽，以產品求發展，以質量求生存，我們熱誠地歡迎各位同仁合作共創輝煌。

連續組成擴展(CCS )

常規沉積條件下的組合合成

組合合成是一種基于脈沖激光沉積的、組合材料合成的新型連續組成擴展(CCS) 方法。PLD-CCS 系統能以連續的方式改變材料，沒有必要使用掩模。可以在每一次循環中，以小于一個單分子層的速率，快速連續沉積每一種組份，其結果是基本等同于共沉積法。該法無需在沉積后進行退火促進內部擴散或結晶，對于生長溫度是關鍵參數的研究或者被沉積的材料或基片不適合高溫退火的情況是有用的。常見的脈沖激光器：固體激光器中的釔鋁石榴石（YAG）激光器、紅寶石激光器、藍寶石激光器、釹玻璃激光器等。

脈沖激光沉積的原理

脈沖激光沉積原理：在真空環境下利用脈沖激光對靶材表面進行轟擊，利用激光產生的局域熱量將靶材物質轟擊出來，再沉積在不同的襯底上，從而形成薄膜。

脈沖激光沉積技術適合做的薄膜包括各種多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金屬薄膜，磁性材料等。

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脈沖激光沉積系統的配置介紹

沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產、銷售脈沖激光沉積，我們為您分析該產品的以下信息。

1.靶: 數量6個，大小1-2英寸，被激光照射時可自動旋轉，靶的選擇可通過步進電機控制;

2.基板:采用適合于氧氣環境鉑金加熱片，大小2英寸，加熱溫度可達1200攝氏度，溫度差<3%，加熱時基板可旋轉，工作環境的壓力可達300mtorr;

3.基板加熱電源，高到1200度;

4.超高真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質，內表面電解拋光，本底真空度<5e-8 pa;

5.樣品搬運室:不銹鋼sus304材質，內表面電解拋光，本底真空度<5e-5 pa;

6.排氣系統:分子泵和干式機械泵;