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微弧氧化電解液組成及工藝條件

　     微弧氧化電解液組成：K2SiO3 5～10g/L，Na2O2 4～6g/L，NaF 0.5～1g/L，CH3COONa 2～3g/L，Na3VO3 1～3g/L；溶液pH為11～13；溫度為20～50℃；陰極材料為不銹鋼板；電解方式為先將電壓迅速上升至300V，并保持5～10s，然后將陽極氧化電壓上升至450V，電解5～10min。微弧氧化技術特點1、提高材料表面硬度微弧氧化膜層為表面多孔（孔徑為幾微米）、內部致密的陶瓷層。

       兩步電解法，靠前步：將鋁基工件在200g/L的鉀水玻璃水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化5min；第二步：將經靠前步微弧氧化后的鋁基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化15min。常用堿性電解液體系包括硅酸鹽體系、磷酸鹽體系、鋁酸鹽體系等，在單一或者它們的復合電解液中，增加各種添加劑如鎢酸鹽、鉬酸鹽等，以達到提高膜層生長速率和致密性等或者功能性膜層的目的。陰極材料為：不銹鋼板；溶液溫度為20～度為20～50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術、微弧氧化生產線

微弧氧化技術的優(yōu)勢

       采用微弧氧化技術對鋁鎂鈦等輕金屬及其合金材料進行表面強化處理，微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高，耐蝕性強，絕緣性好，膜層與基底金屬結合力強，并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化電解液不含有毒物質和zhong金屬元素，電解液抗污染能力強和再生重復使用率高，因而對環(huán)境污染小，滿足優(yōu)質清潔生產的需要，也符合我國可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略的需要。微弧氧化電解液電解液抗污染能力強和再生重復使用率高，因而對環(huán)境污染小，區(qū)別于傳統(tǒng)的電鍍非常環(huán)保，也符合我國可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略的需要。微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源、微弧氧化工藝

微弧氧化的優(yōu)勢

       微弧氧化是一種直接在有色金屬表面原位生長陶瓷層的新技術，微弧氧化技術是近十幾年在陽極氧化基礎上發(fā)展起來的，但兩者在機理上、工藝上以及膜層性能上都有許多不同之處。其中只有微弧區(qū)的溫度適中，既可使氧化膜的結構發(fā)生變化，又不造成鋁合金材料表面的受損，微弧氧化就是利用這個溫度區(qū)對材料表面進行改性處理的。所謂等離子體就是由大量的自由電子和離子組成，且在整體上表現(xiàn)為電中性的物質，它被稱為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)以外的第四態(tài)。處于熱等離子態(tài)的物質具有強的導電性，且能量集中，溫度較高，是一個高熱、高溫的能源。與傳統(tǒng)的陽極氧化法相比，微弧氧化陶瓷膜與基體結合牢固，結構致密，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性、具有廣闊的應用前景。