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              ZF450多源蒸發(fā)鍍膜機(jī)報價服務(wù)放心可靠

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              發(fā)布時間:2020-10-06 12:59  






              OLED有機(jī)無機(jī)聯(lián)合蒸發(fā)系統(tǒng)介紹

              以下是沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您一起分享的內(nèi)容,沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品,歡迎新老客戶蒞臨。

              OLED有機(jī)無機(jī)聯(lián)合蒸發(fā)系統(tǒng)的用途 :

              適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等,可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作。如果加熱速度慢,相當(dāng)于樣品在一系列溫度下漸次分解,使分解過程復(fù)雜化(包括許多副反應(yīng)),譜圖的特征性和重復(fù)性就差。與手套箱聯(lián)合系統(tǒng)的用戶群體為科研院所及實驗室,將真空蒸發(fā)系統(tǒng)工作室置于Glove box無水、無氧、無塵的超純環(huán)境中,PVD與Glove box硬件無縫對接,操控融合一體,廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領(lǐng)域



              鈣鈦礦鍍膜設(shè)備

              以下內(nèi)容由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供,今天我們來分享電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品的相關(guān)內(nèi)容,希望對同行業(yè)的朋友有所幫助!

              設(shè)備用途 :

              適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等,可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作。廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領(lǐng)域

              設(shè)備組成:

              該設(shè)備主要由沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量、蒸發(fā)源、樣品加熱、電控系統(tǒng)、等部分組成。

                    1、鍍膜室:方形前后開門結(jié)構(gòu),內(nèi)帶有防污板。

                    2、真空度:鍍膜室的極限真空≤5×10-5Pa;

                    3、蒸發(fā)源系統(tǒng):有機(jī)源蒸發(fā)源4個,無機(jī)蒸發(fā)源2套

                    4、樣品架系統(tǒng):樣品大小為Φ150mm的樣品,旋轉(zhuǎn)速度為:0~30轉(zhuǎn)/分;

                    5、樣品在鍍膜過程中,可烘烤加熱,加熱溫度為:室溫~190℃,測溫控溫。

                    6、膜厚控制儀:測量范圍0-999999?



              鈣鈦礦鍍膜機(jī)介紹

              主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。ParyleneN粉是各類Parylene中具有較強(qiáng)的滲透能力,能夠有效地在各種細(xì)縫或盲孔表面形成薄膜。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等,可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作,廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領(lǐng)域。鈣鈦礦鍍膜機(jī)工作過程中樣品位于真空室上方,蒸發(fā)源位于真空室下方,向上蒸發(fā)鍍膜,且蒸發(fā)源帶有擋板裝置,防止蒸發(fā)源被污染。

              沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司以誠信為首,服務(wù)至上為宗旨。公司生產(chǎn)、銷售電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品,公司擁有強(qiáng)大的銷售團(tuán)隊和經(jīng)營理念。想要了解更多信息,趕快撥打圖片上的熱線電話!



              有機(jī)熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)介紹

              技術(shù)指標(biāo):

              1. 真空室的極限真空度達(dá)5*10-5pa,漏率為關(guān)機(jī)12小時≤5pa

              2. 真空腔內(nèi)配有集約樣品臺一套,配有大擋板和16套小擋板,手動控制,開關(guān)方便快捷,每個小擋板擋兩塊30*30mm樣片

              3. 蒸發(fā)源共14套,其中10套有機(jī)蒸發(fā)源,4套金屬蒸發(fā)源。控溫精度±1℃,可以實現(xiàn)溫度或電流補(bǔ)償實現(xiàn)蒸鍍速率穩(wěn)定的功能

              4. 金屬蒸發(fā)源配4臺一帶一1000W可控硅調(diào)壓電源,通過銅電極連接,兩端可夾鎢絞絲或者鉭舟,鎢絞絲可以蒸鍍絲狀或者大顆粒材料,鉭舟可以蒸鍍粉末狀材料,蒸發(fā)源采用陶瓷全密封,避免交叉污染

              5. 有機(jī)蒸發(fā)源配10臺一帶一溫控電源,有機(jī)源溫度為室溫-500度,可以根據(jù)材料及用戶需求自行調(diào)節(jié)

              6. 樣品臺具有旋轉(zhuǎn)、升降功能,可在線更換掩膜板一次,可同時裝載30mm*30mm樣品16塊。本產(chǎn)品每兩個樣品都配有小擋板,并且通過PLC控制步進(jìn)電機(jī)對每個小擋板做16個定位,使機(jī)械手推拉小擋板,樣品與蒸發(fā)源之間的間距為200-300mm

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