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發(fā)布時(shí)間：2020-12-09 11:54
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2. 沉積速率高，試驗(yàn)周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻；
3. 工藝參數(shù)任意調(diào)節(jié)，對(duì)靶材的種類沒有限制；
4. 發(fā)展?jié)摿薮螅哂袠O大的兼容性；
5. 便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。
