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              光譜測(cè)厚儀按需定制「一六儀器」

              發(fā)布時(shí)間:2021-05-02 16:45  

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              X射線測(cè)厚儀結(jié)構(gòu)

              一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷(xiāo)售一體

              元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

              一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

              (一)、外部結(jié)構(gòu)原理圖

              X熒光做鍍層分析時(shí),根據(jù)射線是至上而下照射樣品,還是至下而上照射樣品的方式,將X熒光分析儀的外部整體結(jié)構(gòu)分為:上照射和下照射兩種結(jié)構(gòu)。


              (二)、各種外部結(jié)構(gòu)的特點(diǎn)

              1、上照射方式

                 用于照射(激發(fā))的X射線是采用由上往下照射方式的設(shè)備稱(chēng)為上照射儀器。此類(lèi)設(shè)備的Z軸為可移動(dòng)方式,用于確定射線照射光斑的焦點(diǎn),確保測(cè)量的準(zhǔn)確性。

              ①、Z軸的移動(dòng)方式

                 根據(jù)Z軸的移動(dòng)方式,分為自動(dòng)和手動(dòng)兩類(lèi);

              自動(dòng)型的設(shè)備完全由程序與自動(dòng)控制裝置實(shí)現(xiàn),其光斑對(duì)焦的重現(xiàn)性與準(zhǔn)確度都很高,而且使用非常簡(jiǎn)便(一般是與圖像采集系統(tǒng)與控制系統(tǒng)相結(jié)合的方式),一般只需要用鼠標(biāo)在圖像上點(diǎn)擊一下即可定位。任選靶材:W、Mo、Ag等功率:50W(4-50kV,0-1。此類(lèi)設(shè)備對(duì)于測(cè)試形狀各異的樣品非常方便,也是目前主流的分析設(shè)備類(lèi)型。

                 手動(dòng)型設(shè)備,一般需要用人觀察圖像的方式,根據(jù)參考斑點(diǎn)的位置,手動(dòng)上下調(diào)節(jié)Z軸方向,以達(dá)到準(zhǔn)確對(duì)焦的目的。因此,往往在測(cè)試對(duì)象幾何結(jié)構(gòu)基本上沒(méi)有變化的情況下使用比較快捷。



              ②、X、Y軸水平移動(dòng)方式

              水平移動(dòng)方式一般分為:無(wú)X、Y軸移動(dòng)裝置;手動(dòng)X、Y軸移動(dòng)裝置;電動(dòng)X、Y軸移動(dòng)裝置;全程控自動(dòng)X、Y軸移動(dòng)裝置。

              這幾類(lèi)的設(shè)備都是根據(jù)客戶(hù)實(shí)際需要而設(shè)計(jì)的,例如:使用無(wú)X、Y軸移動(dòng)裝置的也很多,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,樣品水平移動(dòng)完全靠手動(dòng)移動(dòng),這種設(shè)備適合于樣品面積較大,定位比較容易的測(cè)試對(duì)象。  



              一六儀器 專(zhuān)業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

              應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車(chē)電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

              X熒光鍍層測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)片選擇與使用


              1.一般要求

                 使用可靠的參考標(biāo)準(zhǔn)塊校準(zhǔn)儀器。后的測(cè)量不確定度直接取決于校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)塊的測(cè)量不確定度和測(cè)量精度。

                 參考標(biāo)準(zhǔn)塊應(yīng)具有的已知單位面積質(zhì)量或厚度的均勻的覆蓋層,如果是合金,則應(yīng)知其組成。參考標(biāo)準(zhǔn)塊的有效或限定表面的任何位置的覆蓋層不能超過(guò)規(guī)定值的±5%.只要用于相同的組成和同樣或已知密度的覆蓋層,規(guī)定以厚度為單位(而不是單位面積質(zhì)量)的標(biāo)準(zhǔn)塊,將是可靠的。X熒光光譜分析是一種非常常見(jiàn)的分析技術(shù),二、應(yīng)用領(lǐng)域X熒光光譜儀作為一種常見(jiàn)的分析技術(shù)手段,在現(xiàn)實(shí)生活中有著非常廣泛的應(yīng)用,主要可以分為以下四大類(lèi):1。合金組成的測(cè)定,校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)不需要相同,但應(yīng)當(dāng)已知。

              金屬箔標(biāo)準(zhǔn)片。如果使用金屬箔貼在特殊基體表面作標(biāo)準(zhǔn)片,就必須注意確保接觸清潔,無(wú)皺折紐結(jié)。任何密度差異,除非測(cè)量允許,否則必須進(jìn)行補(bǔ)償后再測(cè)。

              2.標(biāo)準(zhǔn)塊的選擇

              可用標(biāo)準(zhǔn)塊的單位面積厚度單位校準(zhǔn)儀器,厚度值必須伴隨著覆蓋層材料的密度來(lái)校正。005mm,速度10-30mm(X-Y)/圈,再小再多的樣品測(cè)試都沒(méi)有難度,讓操作人員輕松自如。標(biāo)準(zhǔn)片應(yīng)與被測(cè)試樣具有相同的覆蓋層和基體材料,但對(duì)試樣基材為合金成分的,有些儀器軟件允許標(biāo)樣基材可與被測(cè)試樣基材不同,但前提是標(biāo)準(zhǔn)塊基體材料與試樣基材中的主元素相同。

              3.標(biāo)準(zhǔn)塊的X射線發(fā)射(或吸收)特性及使用

                 校正標(biāo)準(zhǔn)塊的覆蓋層應(yīng)與被測(cè)覆蓋層具有相同的X射線發(fā)射(或吸收)特性。

              如果厚度由X射線吸收方法或比率方法確定,則厚度標(biāo)準(zhǔn)塊的基體應(yīng)與被測(cè)試樣的基體具有相同的X射線發(fā)射特性,通過(guò)比較被測(cè)試樣與校正參考標(biāo)準(zhǔn)塊的未鍍基體所選的特征輻射的強(qiáng)度,然后通過(guò)軟件達(dá)到對(duì)儀器的校正。



              江蘇一六儀器有限公司是一家專(zhuān)注于光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售的高新技術(shù)企業(yè)。公司位于上海和蘇州中間的昆山市城北高新區(qū)。我們專(zhuān)業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)具備十年以上的從業(yè)經(jīng)驗(yàn),經(jīng)與海內(nèi)外多名通力合作,研究開(kāi)發(fā)出一系列能量色散X熒光光譜儀

              X射線熒光光譜分析儀結(jié)構(gòu)及組成:用X射線照射式樣時(shí),試樣可以被激發(fā)出各種波長(zhǎng)的熒光X射線,需要把混合的X射線按波長(zhǎng)(或能量)分開(kāi),分別測(cè)量不同波長(zhǎng)(或能量)的X射線的強(qiáng)度,以進(jìn)行定性和定量分析,為此試用的儀器叫X射線熒光光譜儀。因此,X射線熒光的能量或波長(zhǎng)是特征性的,與元素有一一對(duì)應(yīng)的關(guān)系。由于X光具有一定的波長(zhǎng),同事又有一定能量,因此,X射線熒光光譜儀有2種基本類(lèi)型:波長(zhǎng)色散型(WD)和能量色散性(ED)。

              波長(zhǎng)色散型是由色散元件將不同波長(zhǎng)的特征X射線衍射到不同的角度上,探測(cè)器需移動(dòng)到想要的位置上來(lái)探測(cè)某一波長(zhǎng)能量的射線。而能量色散型,是由探測(cè)器本身的能量分辨本領(lǐng)直接探測(cè)X射線的能量。為使產(chǎn)品國(guó)際化,我國(guó)出口商品和涉外項(xiàng)目中,對(duì)鍍層厚度有了明確要求。波長(zhǎng)色散型譜線分辨本領(lǐng)高,而能量色散型可同時(shí)測(cè)量多條譜線的能量。


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