真空鍍膜機優惠報價,至成鍍膜機廠家供應

影響鍍膜機磁控靶點火電壓的因素有哪些

靶材對點火電壓的影響

(1)陰極靶材的不同材質，因濺射的能量閥值的不同，一般濺射“逸出功”較小的陰極靶材，其點火電壓和工作的電壓要低一些，反之則會高一些。(2)鐵磁性靶材(鐵、鈷、鎳、氮化鐵等)和鐵素體靶材，會偏轉和減少陰極濺射靶面磁場對磁控靶造成影響。靶面磁場的降低，使磁控靶需要很高的電壓才能點火起輝。(3)點火電壓與磁控靶靶材濺射面積和真空腔體的機械尺寸大小有關。靶材濺射面積大，或是真空腔體的機械尺寸大，相應充入工作氣體的數量值較多，在同一陰-陽極電壓下，工作氣體例如氣電離出導電正離子和電子亦增多，導致點火電壓下降(在鍍膜時還會造成磁控靶濺射電壓一定程度上的降低)。

磁控濺射鍍膜靶電源的空載電壓

(1)靶電源輸出的空載電壓主要供磁控靶“點火起輝”用，其峰值電壓大體可分為三擋，即：800V-1KV-1.2(或1.3)KV左右。(2)大約在5KW以下的靶電源輸出空載電壓的峰-峰值Vp-p一般在1~1.3KV左右;5KW以上的靶電源其輸出的空載電壓的峰-峰值Vp-p大約在800~1KV;且電源功率越大,其輸出的空載電壓越接近偏小值。(3)鐵磁性靶材(鐵、鈷、鎳、氮化鐵)以及其它鐵素體靶材，在選用靶電源輸出的空載電壓時，須選擇靶電源輸出空載電壓峰-峰值Vp-p范圍的偏大數值。

鍍膜設備類型：

—空氣：(1)進口和出口區配備動態鎖定輥系統，確保帶材不間斷運動(2)帶材緩沖器、連接和分離裝置以及放置于鍍膜機前、后端大氣中的放卷機和收卷機，以保證連續生產(3)生產周期僅受限于靶材/真空腔體內蒸發物儲存量

—分批式：(1)真空工藝區入口和出口處連接的卷軸裝載鎖定腔體，使用帶材閥隔開(2)可在不中斷工藝真空的前提下裝載和卸載卷軸(3)生產周期為1卷軸的時間，然后停止，進行卷軸更換；帶材廢料長度約為工藝部分的兩倍(4)電子束工藝配備額外的檔板，用以補償卷軸更換

鍍膜模式：單面鍍膜：(1)所有鍍膜工具均位于帶材的一側(2)使用電子束(EB)工藝時，（一般情況下）帶材的底側將被鍍膜雙面鍍膜：(1)鍍膜工具均位于帶材的一側，卷材改變走帶方向(2)需要二次鍍膜與傳動裝置配備

非接觸式鍍膜選項針對敏感的光學鍍膜，提供非接觸式機器概念。

真空鍍膜機實驗專用設備的主要用途真空鍍膜技術分析

真空鍍膜機實驗專用設備主要用于大專院校、科研單位、實驗和研制之用。根據工藝要求研究出不同種類、不同規格、多功能的實驗裝置，或為某產品需要特研制的專用設備。

本公司從事真空鍍膜機設計生產，有著豐富的鍍膜技術及設備的設計制造經驗。是集設備生產與技術服務于一體的高科技企業。本司提供多種型號多弧，磁控，中頻離子真空鍍膜機，并可為客戶量身訂制專用型號真空鍍膜機并提供從設備制造、安裝調試到生產工藝的一站式服務。本公司生產的系列裝搭生產線、系列高低溫、燃油、電熱烘干箱、系列環保噴臺等產品的單位。廣泛用于汽配、摩配、鞋業、工藝品、電器、機械等。是電鍍、電泳、噴漆、噴塑行業中不可缺少的設備。

磁控濺射鍍膜機的工作原理是怎樣的？公司擁有一支從事多年表面處理設備設計、并具有實踐經驗的技術隊伍及優良素質的施工隊伍。為滿足技術的不斷進步及參與大型電鍍工程涂裝工種的建設，我公司與全國多名有時間經驗的工程師及電鍍添加劑骨干企業保持著密切技術聯系與合作，可以針對客戶要求，提供表面處理工藝及設備設計，提供設備的制造、安裝、調試及的售后服務。

鍍膜機真空機械選擇

鍍膜機真空機械選擇 鍍膜機真空機械選擇，真空泵在其工作壓強下，應能排走真空設備工藝過程中產生的全部氣體量。 ⑴真空泵工作時產生的振動對工藝過程及環境有無影響。若工藝過程不允許，應選擇無振動的泵或者采取防振動措施。　 ⑵了解被抽氣體成分，氣體中含不含可凝蒸氣，有無顆粒灰塵，有無腐蝕性等。選擇真空泵時，需要知道氣體成分，針對被抽氣體選擇相應的泵。如果氣體中含有蒸氣、顆粒、及腐蝕性氣體，應該考慮在泵的進氣口管路上安裝輔助設備，如冷凝器、除塵器等。