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離子鍍：蒸發物質的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。這種技術是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發與陰極濺射技術的結合。為了滿足輔助槽的負荷要求，生產線占用面積比同樣產量的環形電鍍自動生產線要大，清洗槽消耗的水量與加熱時的能耗也較大。一種離子鍍系統如圖4[離子鍍系統示意圖],將基片臺作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體以產生輝光放電。從蒸發源蒸發的分子通過等離子區時發生電離。正離子被基片臺負電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子（約占蒸發料的95％）也沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和亞離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附著強度大大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點，并有很好的繞射性，可為形狀復雜的工件鍍膜。

還值得一提的是，使用更大的刀尖半徑意味著您必須為完成通過留下更多材料。為確保工具正常運行，您必須將TNR 等于或大于TNR，以便完成工具的移除。

如果您在拐角處遇到喋喋不休，那么您可能想嘗試更小的TNR。始終使用小于您正在切割的角半徑的TNR - 這樣您就可以“形成”所需的半徑- 尤其是在精加工工具上。這將有助于降低切割壓力并消除顫振。

在使用手機、平板電腦、MP3播放器等數碼電子產品時，人們大多喜歡將數碼電子產品握在手里，如果發生碰撞，數碼電子產品容易從手中滑落，對數碼電子產品造成意外的損壞，因此，為了防止數碼產品從手中滑落，市場上出現了指環支架，有效防止因發生碰撞而造成滑落的后果。對形狀復雜零件、線材、薄板和細小零件，用電化學拋光比機械拋光容易得多。

目前，現有的支架產品只能在相對應的幾個方向進行使用，且指環在不使用的時候附在數碼產品上不好看，也不能隱藏和分離，影響美觀。