深圳化學拋光液來電咨詢 新光速光電

4分散劑

一般來說 ,對拋光液的基本要求是磨粒均勻地懸浮分散在拋光液中,且具有足夠的分布穩(wěn)定性。所以在拋光之前有必要對拋光液進行過濾,濾掉磨料聚集

產(chǎn)生的微量大尺寸磨料顆粒。然而,過濾并不能全部消除這種聚集現(xiàn)象,因為在拋光的實際過程中,工藝參數(shù)的變化會導致磨料的軟聚集,從而影響工件

表面的拋光效果。因此,往往需要在拋光液中添加分散劑來提高拋光液的分散穩(wěn)定性,以減少溶液中磨料粒子團聚。

不同分散劑會對拋光液中磨粒的分散穩(wěn)定性產(chǎn)生不同的影響;分散劑的質量濃度也會對拋光液的分散穩(wěn)定性產(chǎn)生影響。

拋光機修正盤

介紹:

我們可以根據(jù)客戶的上定盤尺寸大小，為客戶設計和定制相對應的修正盤，

金剛石丸片的大小、數(shù)量和排布都可以按照客戶的要求定制，我們也有好的

方案推薦給客戶，修正盤金剛石面的平面度可以控制在0.02mm以內(nèi)。

應用:

拋光機修正盤用于對拋光墊的修正，從而可以使拋光墊達到比較好的面形。

PH值的高低對于任何的拋光液性能方面,都會有一定的影響 ,酸堿性太強不僅影響拋光液其它配方的性能,甚至會把拋光粉的表面結構損壞,嚴重泡壞拋

光液的整體性能,因此需要控制好氧化拋光液的PH值至關重要,那么PH值在氧化拋光液當中，主要帶來什么變化 ,從而影響氧化拋光液的性能

呢?

聚胺脂拋光片修復使用  當聚胺脂拋光片在模具上粘附好后，應先進行修盤。通常用w40的金剛石丸片對拋光模表面（球面或平面）進行校正和是十分必要的。在聚胺脂拋光摸使用的過程中，可根據(jù)需要采用刷子對聚胺脂表面進行打毛，將有助于提高拋光速率。

影響因素

①硬度-拋光墊的硬度決定保持面形精度的能力；

②壓縮比-壓縮比反應拋光墊的抗變形能力；

③涵養(yǎng)量-拋光墊的涵養(yǎng)量是單位體積的拋光墊存儲拋光液的質量；

④粗糙度-表面粗糙度是拋光墊表面的凸凹不平程度,；

⑤密度-密度是拋光墊材料的致密程度；拋光皮

用于CMP的拋光墊必須具有良好的化學穩(wěn)定性(耐腐蝕性)、親水性以及機械力學特性。拋光墊通常可分為硬質和軟質(彈性、粘彈性)兩種。

硬質拋光墊可較好地保證工件表面的平面度

軟質拋光墊可獲得加工變質層和表面粗糙度都很小的拋光表面

用于CMP過程的硬質拋光墊有各種粗布墊、纖維織物墊、聚乙烯墊等,軟質拋光墊主要有聚氨酯墊、細毛氈墊、各種絨毛布墊等。拋光皮