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在芯片制造領域，光刻機和蝕刻機一直是芯片制造領域的關鍵。在業界有個形象的比喻，光刻機是芯片制造的魂，蝕刻機是芯片制造的魄，如果要想制造的芯片，這兩個東西都必須。

而在光刻機方面，與世界的7nm制程都相去甚遠。不管三星、英特爾還是臺積電在芯片制程工藝方面如何去競爭，但ASML終究是背后霸主，贏家，因為他們誰都離不開他的EUV光刻機。而國產光刻機還在路上，目前我國已經能夠使用365納米波長的光生產22納米工藝的芯片，這在全世界尚無先例，它也被稱為世界上首臺分辨力的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國產光刻機可以使用低成本光源，實現了更高分辨力的光刻。

光刻技術，重頭戲是物理技術，光刻的前道工序如涂膠，后道如顯影，都是化學技術，對機器要求不算高。唯獨曝光工序才是難的，其中難又在于光刻機，也就是一只巨型單反相機，其光源和鏡頭，還有控制技術估計已經是人類的極限了，巨難做。刻蝕說得形象點就是沿著曝光圖形刻槽，化學成分比較大，并不算十分關鍵的設備，我朝的刻蝕機技術還是很不錯的。

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金屬蝕刻機作業原理及用途

金屬蝕刻機可加工化學蝕刻或CNC機械雕刻機不方便或難以加工的金屬工件，資料可所以鈦金屬、鈦合金或其他任何高硬度該耐酸性金屬。金屬蝕刻機的加工制造工藝在一般的制造類廣告公司中常常能夠看到。

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運用各種金屬在蝕刻液中產生陽極分別的原理，在不銹鋼、鈦金板、金、銀、銅、模具鋼等金屬上蝕刻圖像和文字。

蝕刻技能介紹

蝕刻技能分為濕式蝕刻與干式蝕刻，濕式蝕刻為常用，運用特定的溶液與薄膜間所進行的化學反應來去除薄膜未被光阻掩蓋的部分，而抵達蝕刻的目的，這種蝕刻方法也便是所謂的濕式蝕刻。

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