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              激光脈沖沉積裝置公司信賴推薦【沈陽鵬程】

              發布時間:2020-12-12 14:30  

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              脈沖激光沉積簡介

              脈沖激光沉積,就是將激光聚焦于靶材上一個較小的面積,利用激光的高能量密度將部分靶材料蒸發甚至電離,使其能夠脫離靶材而向基底運動,進而在基底上沉積,從而形成薄膜的一種方式。激光脈沖能做到特別短,譬如“皮秒”級別,就是說脈沖的時間為皮秒這個數量級——而1皮秒等于一萬億分之一秒。 在眾多的薄膜制備方法中,脈沖激光沉積技術的應用較為廣泛,可用來制備金屬、半導體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質薄膜,甚至還用來制備一些難以合成的材料膜,如金剛石、立方氮化物膜等。

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              沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業脈沖激光沉積供應商,我們為您帶來以下信息。

              【設備主要用途】

              PLD450A型脈沖激光沉積設備采用PLD脈沖激光沉積技術,用于制備高溫超導薄膜、半導體膜、鐵電薄膜、硬質薄膜以及微電子和光電子用多元氧化物薄膜及異質結,也可用于制備氮、碳、硅化合物及各種有機—無機復合材料薄膜及金剛石薄膜等。

              【設備優點】

              設備全程采用一鍵式操作抽氣,關機,程序自動化定時操作。避免了繁瑣的角閥,插板閥人工開啟。

              【設備主要組成】

              設備由沉積腔室(單室球形或圓筒形)、樣品加熱轉臺、激光入射轉靶、激光窗、電源控制系統、激光束掃描系統、計算機控制轉靶的旋轉、脈沖準分子激光器等組成



              脈沖激光沉積設備介紹

              以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內容,沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產脈沖激光沉積,歡迎新老客戶蒞臨。

              是比較理想的薄膜與涂層合成設備。脈沖激光沉積機制沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產、銷售脈沖激光沉積,我們為您分析該產品的以下信息。可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供相關系統配件,例如基片加熱裝置、原位監測工具。此外,BlueWave還為您提供標準的薄膜以及材料涂層,例如氧化物涂層、導電薄膜、無定型或納米晶Si/SiC、晶體AlN-GaN、聚合物、納米鉆石、HFCVD鉆石涂層以及器件加工。



              脈沖激光沉積系統的配置介紹

              沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產、銷售脈沖激光沉積,我們為您分析該產品的以下信息。

              1.靶: 數量6個,大小1-2英寸,被激光照射時可自動旋轉,靶的選擇可通過步進電機控制;

              2.基板:采用適合于氧氣環境鉑金加熱片,大小2英寸,加熱溫度可達1200攝氏度,溫度差<3%,加熱時基板可旋轉,工作環境的壓力可達300mtorr;

              3.基板加熱電源,高到1200度;

              4.超高真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質,內表面電解拋光,本底真空度<5e-8 pa;

              5.樣品搬運室:不銹鋼sus304材質,內表面電解拋光,本底真空度<5e-5 pa;

              6.排氣系統:分子泵和干式機械泵;

              7.閥門: 采用超高真空擋板閥;

              8.真空檢測:真空計;

              9.氣路兩套: 采用氣體流量計控制;

              10.薄膜生長監控系統: 采用掃描型差分RHEED;

              11.監控系統:基板溫度的監控和設定,基板和靶的旋轉,靶的更換等;

              12.各種電流導入及測溫端子;

              13.其它各種構造:各種超高真空位移臺,磁力傳輸桿,超高真空法蘭,超高真空密封墊圈,超高真空用波紋管等;



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