有機高分子鍍膜設備制造商承諾守信 拉奇納米

真空鍍膜技術是真空應用技術的一個重要分支，它已廣泛地應用于光學、電子學、能源開發，理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學以及科學研究等領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣相沉積法。國內真空離子鍍膜機經過幾十年的發展，相對于國外鍍膜設備而言，在自動化程度與技術上取得了一定的進步，但在鍍膜產品穩定性和性方面尚需提升，設備仍依賴進口。如果真空鍍膜的目的是為了改變物質表面的物理、化學性能，則這一技術又是真空鍍膜處理技術中的重要組成部分。

真空鍍膜設備主要由真空腔、抽氣系統、蒸發系統、成膜控制系統等組件構成。

真空鍍膜設備選購要點分析如下：

根據工藝要求選擇不同規格及類型的鍍膜設備，其類型有電阻蒸發、電子束蒸發、磁控濺射、磁控反應濺射、離子鍍、多弧離子鍍等。

真空系統由機械泵、擴散泵、油增壓泵、增擴泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動、手動、電動閥門、管道等組成。

真空鍍膜設備是制作真空條件應用較為廣泛的一種設備。

真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。真空鍍膜設備若有灰塵，將會影響真空鍍膜的效果和質量。首先，被鍍膜材料表面肯定是有灰塵的，在盡量減小材料表面灰塵的前提下。

真空鍍膜機薄膜監控目前應用方式比較多，主要有：目視監控法，定值監控、水晶振蕩監控、時間監控等等。