PVD離子鍍膜機廠家價格

雙色真空鍍膜機PVD技術的應用范圍及優缺點

很多人對真空鍍膜機PVD技術的了解不是特別全，也不知道具體是應用到哪些行業，以及它在實際運用過程有哪些優缺點?至成真空小編現在詳細和大家介紹一下:

真空鍍膜機PVD技術其應用范圍是：

1）碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料；

2）金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

真空鍍膜機PVD技術其優點是:

與傳統磁控濺射單色PVD技術相比，雙色PVD工藝更為復雜，流程更為繁雜，生產難度高，但外觀效果，兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。傳統磁控濺射單色PVD技術要在實現雙色效果，采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎上把需要實現另一種顏色的區域激光鐳雕掉或者磨掉。新加工出來的區域就只能表現金屬的本色，表面硬度也就是金屬本身的表面硬度---HV200左右（而PVD后的表面硬度為HV600以上）。

光學真空鍍膜機光學鍍膜特點分類

光學真空鍍膜機的光學鍍膜特點有哪些呢？很多人很好奇，畢竟是真空鍍膜行業的新技術，已經廣泛用于數碼科技，傳統銀鏡，科學儀器，光通信，半導體，新能源等行業，獲眾多廠商認可，并大量投入使用。那么光學真空鍍膜機光學鍍膜特點分哪幾種類型呢？下面為大家詳細介紹一下：

主要的光學真空鍍膜機光學薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等，它們在國民經濟和建設中得到廣泛的應用，獲得了科學技術工作者的日益重視。例如采用減反射膜后可使復雜的光學鏡頭的光通量損失成十倍的減小;采用高反射膜比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高;利用光學薄膜可提高硅電池的效率和穩定性。

簡單的光學薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質膜層。在這種情況下，可以用光的干涉理論來研究光學薄膜的光學性質。當一束單色光平面波入射到光學薄膜上時，在它的兩個表面上發生多次反射和折射，反射光和折射光的方向有反射定律和折射定律給出，反射光合折射光的振幅大小則有菲涅爾公式確定。

光學鍍膜技術在過去幾十年實現了飛快的發展，從舟蒸發、電子束熱蒸發及其離子束輔助沉積技術發展到離子束濺射和磁控濺射技術。近年來在這些沉積技術和裝備領域的主要技術有以下三點：

一、漸變折射率結構薄膜技術與裝備：

漸變折射率結構薄膜技術與裝備:已經有大量研究工作已經證實Rugate無界面型薄膜結構和準Rugate多種折射率薄膜結構通過加強調制折射率在薄膜厚度方向上分布，能設計出非常復雜的光譜性能，(部分)消除

了薄膜界面特征，(部分)消除界面效應，如電磁波在界面上比薄膜內部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力學穩定性。

二、磁控濺射光學鍍膜系統

以LeyboldHelios和ShincronRAS為代表，磁控濺射技術及裝備在精密光學領域和消費光電子薄膜領域占據越來越大的份額。磁控濺射薄膜沉積過程控制簡單，粒子能量高，獲得的薄膜結構致密穩定。

三、間歇式直接光控：

間歇式直接光控：以LeyboldOptics公司的OMS5000系統為代表，光學鍍膜過程中越來越多地使用間歇式信號采集系統，對鍍膜過程產品片實現直接監控。相對于間接光控和晶控系統，間歇式直接光控系統有利于降低實際產品上的薄膜厚度分布誤差，可以進一步提高產品良率并減少了工藝調試時間。

真空磁控濺射鍍膜機工藝,及人員技能選擇

很多人聽說過真空磁控濺射鍍膜工藝，大概只知道它的做用就是鍍膜，但是大家卻不知道，它的鍍膜原理以及流程，為什么它能鍍出精美的膜，包括后期這方面的工作人員該如何選擇，或者是規劃自己后期的發展，各人認為，只有你對這個行業有詳細的了解，這樣你才能做出正確的選擇。

首先給大家講解一下真空磁控濺射鍍膜機鍍膜流程，讓大家知道，那些漂亮的膜是怎么鍍出來的。一般在在鍍膜前，機器都要先抽真空，并且抽真空過程中要加熱，加熱的溫度取決于你工件的材質3。當真空度達到高真空，一般在0.005Pa左右時，開始Ar離子轟擊清洗，用電弧靶主弧轟擊清洗，接著用用用電弧和磁控靶混合打底和用磁控靶打底，然后通入要鍍的物質，后降溫出爐就可以了，整個鍍膜的過程就完成了，很多多人，覺的鍍膜工藝很繁瑣，技術含量很高。其實不然，只要你弄鍍膜流程和鍍膜過程的應該注意的細節，然后精力投入進去，其實還是非常好上手的。很過剛入門的新人，一腔熱血，想要進入鍍膜行業，想要學習技術，但是卻沒有了解他到底想要學習什么技術。是鍍膜工藝技術，鍍膜設備方面的技術，很多新人對此行業了解不深，把這兩者混為一談，只是這兩者是有很大區別的，尤其是剛進入行業的新人，要切記及注意。