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曝光

曝光是指將涂有感光層的PS版置于曬版機工作臺上，放好底片，通過曝光 獲得一種潛在或可見圖像的過程。曬版的工藝流程為：制備感光版-裝版-曝光-顯影-檢查-修正-烤版-提墨-擦膠檢查修正：將曝光、顯影后的PS版存在的質量問題加以修正。曝光是一切光化學成像方法的基本過程與主要特征。曝光，曝光模式即計算機采用自然光源的模式，通常分為多種，手動曝光、AE鎖等模式。照片的好壞與曝光有關，也就是說應該通多少的光線使CCD能夠得到清晰的圖像。曝光量由通光時間（快門速度決定），通光面積（光圈大小）決定。

DI直接成像曝光機

1、產品特點：

初始投入少：購機成本較低，節省傳統菲林和曝光機成本，縮短生產時間，特別適用于周期要求短的樣板制作。

使用維護成本低：光源壽命長達3 年，廠家提供兩年免費保修，可保證極低的使用和維護成本。

待機時不消耗光源：采用“瞬間”曝光模式，無曝光時光源處于關閉狀態，不消耗電能，同時提高光源使用壽命，

內置板面清潔系統：內置噴氣式空氣清潔系統可清潔板面曝光區域，降低對整體環境的要求；特有的DI 多次曝光系統可有效的防止空氣中塵埃粒子阻擋光束產生陰影而導致圖形品質的降低。

自動平行曝光機和ldi曝光機有什么區別？

主要特點：這個類型的設備只有一個燈管，曝光臺面也是分有上下方兩個鏡子，使用的是光線折射的原理。高靈活性：對位影像系統可使用單一設定對同一批板子和根據每一張板子的標靶進行單獨漲縮曝光。當兩個面同時進行曝光的時候，上下燈的曝光是分開的。先進行曝光，一面鏡子將光線反射到臺面的上方鏡子，然后再折射到曝光臺面上。下燈曝光時，光線是直接直射到下方的鏡子里然后在折射到臺面上，因此說使用品行曝光機進行曝光的時候，上燈的能量會比下燈的能量要更大一些，曝光及級數才會一樣。