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              NR73G 6000P光刻膠廠家給您好的建議,北京賽米萊德

              發(fā)布時(shí)間:2020-12-21 14:49  

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              光刻膠

              北京賽米萊德貿(mào)易有限公司供應(yīng)美國Futurrex新型lift-off光刻膠NR9-3000PY,此款負(fù)膠的設(shè)計(jì)適用于比較寬的波長范圍和i線(366納米)曝光工具。當(dāng)顯影后NR9-3000PY顯示出負(fù)的側(cè)壁角度,是lift-off工藝中比較簡(jiǎn)易的光刻膠。利用感光與未感光光刻膠對(duì)堿性溶劑的不同溶解度,就可以進(jìn)行掩膜圖形的轉(zhuǎn)移。和其他膠相比NR9i-3000PY有下面的優(yōu)勢(shì):


              NR9-3000PYNR73G 6000P光刻膠廠家

              五、曝光

              在這一步中,將使用特定波長的光對(duì)覆蓋襯底的光刻膠進(jìn)行選擇性地照射。光刻膠中的感光劑會(huì)發(fā)生光化學(xué)反應(yīng),從而使正光刻膠被照射區(qū)域(感光區(qū)域)、負(fù)光刻膠未被照射的區(qū)域(非感光區(qū))化學(xué)成分發(fā)生變化。這些化學(xué)成分發(fā)生變化的區(qū)域,在下一步的能夠溶解于特定的顯影液中。光刻膠基于應(yīng)用領(lǐng)域不同一般可以分為半導(dǎo)體集成電路(IC)光刻膠、PCB光刻膠以及LCD光刻膠三個(gè)大類。

              在接受光照后,正性光刻膠中的感光劑DQ會(huì)發(fā)生光化學(xué)反應(yīng),變?yōu)橐蚁┩⑦M(jìn)一步水解為茚并羧酸(Indene-Carboxylic-Acid, CA),羧酸在堿性溶劑中的溶解度比未感光部分的光刻膠高出約100倍,產(chǎn)生的羧酸同時(shí)還會(huì)促進(jìn)酚醛樹脂的溶解。利用感光與未感光光刻膠對(duì)堿性溶劑的不同溶解度,就可以進(jìn)行掩膜圖形的轉(zhuǎn)移。三、光刻膠涂覆(PhotoresistCoating)光刻膠涂覆通常的步驟是在涂光刻膠之前,先在900-1100度濕氧化。

              曝光方法:

              a、接觸式曝光(Contact Printing)掩膜板直接與光刻膠層接觸。

              b、接近式曝光(Proximity Printing)掩膜板與光刻膠層的略微分開,大約為10~50μm。

              c、投影式曝光(Projection Printing)。在掩膜板與光刻膠之間使用透鏡聚集光實(shí)現(xiàn)曝光。

              d、步進(jìn)式曝光(Stepper)


              NR77-15000PYNR73G 6000P光刻膠廠家NR73G 6000P光刻膠廠家

              光刻膠穩(wěn)定性

              化學(xué)穩(wěn)定性:在正常儲(chǔ)存和操作條件下,在密閉容器中室溫穩(wěn)定。

              避免的條件: 火源、濕氣、過熱的環(huán)境。

              不相容的其他材料: 強(qiáng)氧化劑。

              光刻膠毒理資料

              淡黃色液體,氣味微弱。引起皮膚、眼睛、粘膜和呼吸道的刺激。可以通過皮膚吸收而引起全身性的癥狀。液體是可燃的。

              毒性數(shù)據(jù)

              皮膚:可以通過皮膚吸收而引起全身性的癥狀,類似于吸入。長時(shí)間或重復(fù)接觸可引起輕度至中度的刺激或皮炎。

              眼睛:引起眼睛發(fā)炎。

              吸入:吸入時(shí)可能有害。引起呼吸道刺激。蒸氣可能導(dǎo)致困倦和頭暈。

              攝食:吞食有害。

              延遲效應(yīng):肝和損害,以及動(dòng)物實(shí)驗(yàn)中有報(bào)道血液和GU髓有影響。


              NR9-3000PY

              11.請(qǐng)教~有沒有同時(shí)可以滿足RIE

              process 和Lift-off

              process的光阻,謝謝!

              A 我們推薦使用Futurrex

              NR1-300PY來滿足以上工藝的需求。

              12.Futurre光刻膠里,有比較容易去除的負(fù)光阻嗎?

              A NR9-系列很容易去除,可以滿足去膠需要。

              13.我們目前用干膜做窄板,解析度不夠,希望找到好的替代光阻?

              A NR9-8000因?yàn)橛泻芨叩腁R比例,適合取代,在凸塊的應(yīng)用上也有很大的好處。

              14.傳統(tǒng)的Color

              filter 制程,每個(gè)顏色的烘烤時(shí)間要2-3個(gè)小時(shí),有沒有更快的方法制作Coior

              filter?

              A 用于Silylation制程------烘烤時(shí)間只需要2分鐘,同時(shí)光阻不需要Reflow, 顏色也不會(huì)老化改變,只需要在Filter上面加熱溶解PR1-2000S光阻,Microlenses就能形成!

              15.請(qǐng)問有專門為平坦化提供材料的公司嗎?

              A 美國Futurrex公司,專門生產(chǎn)應(yīng)用化學(xué)品的,可以為平坦化的材料提供PC3-6000和PC4-1000都是為平坦化用途設(shè)計(jì),臺(tái)灣企業(yè)用的比較多。

              16.我需要一種可用于鋼板印刷的方式來涂布PROTECTIVE

              COATING,那種適合??

              A 推薦美國Futurrex,PC4-10000。

              17.臘是用來固定芯片的,但很難清洗干凈,哪里有可以替代的產(chǎn)品介紹下,謝謝?

              A 我們公司是使用Futurrex

              PC3-6000,可以替代的,而且去除比較容易,你可以試用下。

              18.請(qǐng)問有沒有100微米厚襯底為鍍鎳硅并可用與MEMS應(yīng)用的光刻膠嗎?

              A NR4-8000P可以做到140微米的厚度,并在鍍鎳的襯底上不會(huì)出現(xiàn)難去膠的問題,如果是其他非鍍鎳襯底NR9-8000P是適合的選擇。

              19.誰有用在光波導(dǎo)圖案的光刻膠?是否可以形成角度為30度的側(cè)壁?

              A 你必須實(shí)現(xiàn)通過逐步透光來實(shí)現(xiàn)掩膜圖案棱的印刷,NR4-8000P是專門為光波導(dǎo)圖案應(yīng)用進(jìn)行設(shè)計(jì)的產(chǎn)品。


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