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真空鍍膜定義真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。顧名思義真空鍍膜是在真空狀態(tài)下，一般指空氣壓強(qiáng)在10-1～l0-4Pa 范圍，形成的薄膜層一般在l0 微米左右厚度。

陽極氧化：應(yīng)用于金屬反光杯。有效反光率不到真空鍍鋁的一半。優(yōu)點(diǎn)是不怕紫外線、紅外線的損害，甚至可以用水清洗。

汽車大燈屬于易損件，屬于需要維護(hù)的部件，很多車主其實(shí)沒有意識(shí)到。目前市場上的大燈總從一般就分為兩大類，類是中車原車出廠就自帶了透鏡的總成，區(qū)別在光源：鹵素?zé)簦瘹鉄簦琇ED大燈，這類車剛購買的時(shí)候照明效果比較好，用了幾年衰減嚴(yán)重亮度還不如鹵素?zé)簟５诙惥褪浅鰪S帶的鹵素?zé)敉肟偝闪耍@類車因?yàn)楸旧睇u素?zé)袅炼染筒桓撸靡欢螘r(shí)間之后亮度衰減更加的影響夜間行車安全。

從鍍膜的原理及特點(diǎn)看，真空蒸鍍工件不帶電，真空條件下金屬加熱蒸發(fā)沉積到工件表面，沉積粒子的能量與蒸發(fā)時(shí)的溫度對(duì)應(yīng)。濺射的工件為陽極，靶為陰極，利用原子的濺射作用把靶材原子擊出而沉積在工件表面上，沉積原子的能量由被濺射原子的能量分布決定。離子鍍的工件為陰極，蒸發(fā)源為陽極，進(jìn)入輝光放電空間的金屬原子離子化后奔向工件，并在工件表面沉積成膜，沉積過程中離子對(duì)基片表面、膜層與基片的界面以及膜層本身都發(fā)生轟擊作用，粒子的能量決定于陰極上所加的電壓。

真空鍍膜基本方法 ：

從被沉積物質(zhì)的氣化方式看，真空蒸鍍?yōu)殡娮杓訜帷㈦娮邮訜帷⒏袘?yīng)加熱、激光加熱等；濺射的鍍料原子不是靠加熱方式蒸發(fā)，而是靠陰極濺射由靶材獲得沉積原子；離子鍍可以分為蒸發(fā)式或者濺射式，蒸發(fā)式為電阻加熱、電子束加熱、感應(yīng)加熱、激光加熱等，濺射式由進(jìn)入輝光放電空間的原子由氣體提供，反應(yīng)物沉積在基片上。