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?PVD真空鍍膜五金鍍膜廠

PVD真空鍍膜過程的均勻性

PVD真空鍍膜過程非常復(fù)雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因?yàn)槎夹枰哒婵斩榷鴵碛薪y(tǒng)一名稱。所以對于不同原理的PVD真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。

PVD鍍膜加工工藝流程比較長、工序繁多，發(fā)生故障的影響因素會很多。如PVD鍍膜前處理不凈、清洗不良、電解液成分失調(diào)及雜質(zhì)污染、生產(chǎn)環(huán)境不良等。PVD鍍膜而故障的原因往往存在于以上各影響因素的一兩個細(xì)節(jié)之中。

真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。真空鍍膜技術(shù)是利用物理、化學(xué)手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達(dá)到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得顯著技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益的作用。因此真空鍍膜技術(shù)被譽(yù)為發(fā)展前途的重要技術(shù)之一，并已在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中展現(xiàn)出誘人的市場前景。這種新興的真空鍍膜技術(shù)已在國民經(jīng)濟(jì)各個領(lǐng)域得到應(yīng)用，如航空、航天、電子、信息、機(jī)械、石油、化工、環(huán)保、軍事等領(lǐng)域。

真空鍍膜機(jī)鍍塑料時抽真空時間過長主要原因就是塑料產(chǎn)品的放氣量太大或真空室有漏氣現(xiàn)象。

(1)真空室有漏氣現(xiàn)象：大家都知道，真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進(jìn)行鍍膜加工的，若真空室有漏氣現(xiàn)象而沒有經(jīng)過檢漏找出漏氣位置，則真空鍍很長時間都不能抽得上來的；

(2)即使真空室沒有漏氣，因?yàn)樗芰袭a(chǎn)品的放氣量大，所以抽真空，特別是高真空很難達(dá)到。而且由于塑料產(chǎn)品的放氣，造成真空室內(nèi)鍍膜氣體的不純，有雜氣的存在，造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗，發(fā)黃，發(fā)黑等。

一般鍍制塑料產(chǎn)品的泵組都配置大功率或者大口徑的分子泵或者擴(kuò)散泵，大馬拉小車的理論。

淺談?wù)婵斟兡さ膸状髢?yōu)勢

 一：堆積資料廣泛：可堆積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法堆積的低電位金屬，通以反響氣體和合金靶材更是能夠堆積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，并且能夠根據(jù)需要規(guī)劃涂層系統(tǒng)。

二：節(jié)省金屬資料：因?yàn)檎婵胀繉拥母街Α⒅旅芏取⒂捕取⒛透g功能等適當(dāng)優(yōu)良，堆積的真空電鍍鍍層能夠遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于慣例濕法電鍍鍍層，到達(dá)節(jié)省的意圖。