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              OPTM膜厚儀歡迎來電 蘇州大塚電子

              發布時間:2020-12-31 07:06  

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              使用顯微光譜法在微小區域內通過絕i對反射率進行測量,可進行高i精度膜厚度/光學常數分析。

              可通過非破壞性和非接觸方式測量涂膜的厚度,例如各種膜、晶片、光學材料和多層膜。 測量時間上,能達到1秒/點的高速測量,并且搭載了即使是初次使用的用戶,也可容易出分析光學常數的軟件



              硬涂層膜厚度的測量[FE-0004]

              近年來,使用具有各種功能的高i性能薄膜的產品被廣泛使用,并且根據應用不同,還需要提供具有諸如摩擦阻力,抗沖擊性,耐熱性,薄膜表面的耐化學性等性能的保護薄膜。通常保護膜層是使用形成的硬涂層(HC)膜,但是根據HC膜的厚度不同,可能出現不起保護膜的作用,膜中發生翹曲,或者外觀不均勻和變形等不良。 因此,管理HC層的膜厚值很有必要。





              膜厚測試儀波譜校準   不關機狀態下每日必做一次或每次關機3小時以上再次重開機必做,目的讓儀器進行自我補償調整。首先點擊任務欄中的“波譜校準”,然后將波譜校準片放入儀器,將Cu-Ag合金部分移至十字線中間,鐳射聚焦,測量(點擊Go鍵)。待膜厚測試儀器自動完成每一步,紅色STOP鍵會轉變成綠色GO鍵后,將純Ag部分移至十字線中間,鐳射聚焦,測量(點擊Go鍵),完成后出現“波譜校準成功”字樣的對話框時,點擊“確定”即可。


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