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              電弧離子鍍膜設備在線咨詢「至成真空科技」

              發布時間:2021-09-15 21:44  

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              真空鍍膜設備鍍鋁工藝要求:


              真空度不得低于103PA,避免呈現褐色條紋或鋁層厚度不均表象;操控好體系張力,敞開冷卻體系,避免薄膜受熱呈現拉伸變形;準確操控卷取速度(280~320m/min)、送鋁速度(0.4~0.7m/min?2mm鋁絲)及蒸騰舟加熱電流,以取得商品請求的鋁層厚度(100~300A°);可預先在薄膜上涂布必定干量的底膠,并充沛枯燥,再經真空鍍鋁,可進步鋁層與薄膜的結合力。然后在鋁膜上涂布必定量的維護樹脂,避免鋁層氧化蛻變。經此技術構成的鍍鋁薄膜,耐摩擦,且不易蛻變。



              真空鍍膜設備維護保養


              真空鍍膜設備鍍制兩百次以上應當對真空室進行清潔,使用清洗液:NaOH飽和溶液,步驟,反復擦洗真空室的內壁。注意事項:NaOH溶液對人體皮膚有灼傷效果,不可直接接觸。

              真空鍍膜設備的真空泵(包括機械泵、旋片泵、擴散泵、滑閥泵等)連續工作了一個月以上需要更換新油(視情況而定,如油明顯不足應及時添加不應死板),真空泵用久了抽真空速度會明顯變慢,使用三個月至半年應該清潔油箱污垢,檢查是否有泄露。泵在運轉過程中應當保持油箱內油量不低于油標,泵應當時刻保持清潔,注意不同種類的真空泵油不可混合使用,真空泵使用唯獨不超過70攝氏度。


              真空鍍膜設備的日常維護:

              設備在工作的時候,操作人員不得長時間的離開崗位。設備工作時,應時刻注意各部分儀表的顯示情況以及泵的聲音,如果出現異常應當及時找出問題所在。

              應設備工作時可能會產生振動使得部分螺栓出現松動,故必須定期檢查。

              經常檢查各部分的回水情況,工作時應當保證各部分有充足的冷卻水。

              設備停止使用時候,應將真空室內的氣體抽空,如果長時間需要擱置,需要充入保護氣體并且把設備的水冷套循環水清空。

              對設備的拆修不得用重錘敲擊,不得劃傷密封槽、密封面。



              實驗室用鍍膜機,你是否了解?


              近咨詢實驗室鍍膜機的客戶越來越多,但是很多客戶還不是特備了解它的運行原理和優勢,大部分客戶只知道它具體能做什么,但是對于機器的專業知識,還是一知半解,因為現在市面上的鍍膜機器種類繁多,也的確是不太好分辨。那么今天至成真空小編,詳細的介紹一下設備的特點,讓大家對它有一個系統的認識。

              實驗型小型蒸發鍍膜設備(電阻/電子束/感應/離子源)適用于任意底色的塑料,陶瓷、樹脂工藝品,玻璃等經真空鍍膜后皆可鍍成金、銀、七彩、紅、紫、藍、灰、黑等多種鮮艷顏色,具有提高產品檔次,外觀更顯華貴作用。


              并且實驗室鍍膜機主要由真空室、排氣系統、蒸發系統和電氣設備四部分組成。真空室是放置鍍件、進行鍍膜的場所,直徑一般為400~700mm,高400~800mm,用不銹鋼或碳鋼制作,有水冷卻裝置。它具有外形美觀、結構緊湊、性能多樣、操作簡單可靠、耗電量低的特點。可實現蒸發鍍膜、磁控濺射鍍膜、電弧鍍膜等工藝。可進行手動、半自動、全自動控制,有多種尺寸型號可供選擇。

              很多廠家為了提高機器的鍍層厚度的均勻性,真空室內的鍍件夾具有行星機構或自轉加公轉的運動裝置,如用行星運動方式,這種運動方式成膜均勻性好,臺階覆蓋性能良好,鍍件裝載量大,可以充分利用真空鍍膜室的有效空間,是目前經常采用的運動方式。為了提高抽氣速率,可在機械泵和擴散泵之間加機械增壓泵。因此,排氣系統既要求在較短的時間內獲得低氣壓以保證快速的工作循環。



              那么清洗鍍膜機大概有哪些清洗方法呢,下面為大家介紹幾種


              一:放電清洗,這種清洗方法在高真空,超高真空系統的清洗除氣中應用的非常廣泛.尤其是在真空鍍膜設備中用的多。

              二:真空加熱清洗,將工件放置于常壓或真空中加熱.促使其表面上的揮發雜質蒸發來達到清洗的目的,這種方法的清洗效果與工件的環境壓力、在真空中保留時間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關。

              三:氮氣沖洗,氮氣在材料表面吸附時,由于吸附能小,因而吸留表面時間極短.即便吸附在器壁上,也很容易被抽走。

              四:反應氣體沖洗,這種方法特別適用于大型超高不銹鋼真空系統的內部洗(去除碳氫化合物污染)。通常對于某些大型超高真空系統的真空室和真空元件,為了獲得原子態的清潔表面,消除其表面污染的標準方法是化學清洗,真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統等方法。

              五:紫外線輻照清洗,利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。


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