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發布時間:2020-12-20 07:34  
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蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后,將要蝕刻區域的保護膜去除,在蝕刻時接觸化學溶液,達到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。
顯影是在硅片表面光刻膠中產生圖形的關鍵步驟。光刻膠上的可溶解區域被化學顯影劑溶解,將可見的島或者窗口圖形留在硅片表面。常見的顯影方法是旋轉、噴霧、浸潤,然后顯影。硅片用去離子水沖洗后甩干。
檢查OK后才可以放入下一道工序:蝕刻。經過不斷改良和工藝設備發展,亦可以用于航空、機械、化學工業中電子薄片零件精密蝕刻產品的加工,感光(爆光)完成后就要進行下一步工作:顯影;顯影的目的是通過顯影將未爆光的地方沖走,經過爆光的地方固化,形成蝕刻圖案,經過顯影后質檢員對產品進行檢查,把顯影不到的地方或圖案不良的產品挑選出來,良品則進入下一道工序:封油。
同樣,如果蝕刻的時間太長,特別是蝕刻液溫度較高的情況下,耐蝕油墨或防護涂層浸漬時間過長,也同樣起到上述的副作用和不良后果,因此時間控制上也要適當,不能浸得太久,一般不宜超過20~25min。簡單的講蝕刻工藝是五金沖壓工藝的延伸,也稱為光化學蝕刻,也有人稱為腐蝕。五金沖壓是開模具沖壓成型,但沖壓工藝比較粗糙。公差大,精度不高,對于高粗度的零件解決不了,蝕刻工藝解決了工業生產中對高精密零件需求。