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發布時間：2020-09-16 11:15
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氧化鋯由于ZrO2單晶需摻入釔（Y）以穩定其結構， 一般實際使用的是YSZ單晶――加入釔穩定劑（含量約19%）的氧化鋯單晶。它機械、化學穩定性好，價格較低因而得以廣泛應用。常溫下保持立方相的氧化鋯晶體，具有硬度高(莫氏硬度8~8.5)，折射率高(于6830?處，n≈2.149)，色散性強(~0.056)和化學穩定性好等特性。
單晶YSZ陶瓷材料因其高強度、耐腐蝕、耐高溫而被認為是具有廣泛應用前景的新型陶瓷。它作為一種重要的快離子導體，在氧傳感器、氧泵浦、固體氧化物燃料電池已得到廣泛應用和研究。氧化鋯存在三種穩定度同素異晶體：單斜相，立方相和四方相。純氧化鋯的單斜相從室溫到1170℃是穩定的，超過這一溫度轉變為四方相，然后在2370℃轉變為立方相，直到2680℃發生融化。
單晶YSZ陶瓷材料因其高強度、高硬度、耐腐蝕、耐高溫而被認為是具有廣泛應用前景的新型陶瓷。它作為一種重要的快離子導體，在氧傳感器、氧泵浦、固體氧化物燃料電池已得到廣泛應用和研究。由于氧化鋯材料具有高硬度，高強度，高韌性，極高的耐磨性及耐化學腐蝕性等等優良的物化性能，氧化鋯已經在陶瓷、耐火材料、機械、電子、光學、航空航天、生物、化學等等各種領域獲得廣泛的應用。
從光學應用的角度來講，單晶YSZ因其折射率高、色散大、物化性能穩定，常被用作高溫光學元件，以及在光學設備中作為激光基質晶體。常溫下， 氧化鋯只能是單斜相，當用鋯鹽煅燒，達到650℃時，出現穩定的四方相，繼續升高時四方相逐步轉變為單斜相，再繼續升溫至830℃時， 氧化鋯又開始向四方相轉變，至1170℃時，完全轉變為四方相，溫度升至2370℃時轉變為立方相.
