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發布時間:2020-08-20 05:24  
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真空鍍膜加工已有200年的歷史。在19世紀可以說一直是處于探索和預研階段。探索者的艱辛在此期間得到充分體現。1805年, 開始研究接觸角與表面能的關系(Young)。1817年, 透鏡上形成減反射膜(Fraunhofer)。1839年, 開始研究電弧蒸發(Hare)。開始研究真空濺射鍍膜(Grove;Pulker)。1857年, 在氮氣中蒸發金屬絲形成薄膜(Faraday;Conn)。 1874年, 報道制成等離子體聚合物(Dewilde;Thenard)。1877年,薄膜的真空濺射沉積研究成功(Wright)。1880年, 碳氫化合物氣相熱解(Sawyer;Mann)。1887年, 薄膜的真空蒸發(坩堝) (Nahrwold;Pohl;Pringsheim)。開始研制形成減反射膜的化學工藝。研究成功四氯化鎢的氫還原法(CVD); 膜厚的光學干涉測量法(Wiener)。
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真空鍍膜是指在真空環境下,將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料),屬于物理氣相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜,故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中,以塑料超為常見,其次,為紙張鍍膜。相對于金屬、陶瓷、木材等材料,塑料具有來源充足、性能易于調控、加工方便等優勢,因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結構材料,大量應用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業領域。但塑料材料大多存在表面硬度不高、外觀不夠華麗、性低等缺陷,如在塑料表面蒸鍍一層金屬薄膜,即可賦予塑料程亮的金屬外觀,合適的金屬源還可大大增加材料表面性能,大大拓寬了塑料的裝飾性和應用范圍。
真空鍍膜廠家 真空鍍膜加工鍍鋁怎樣鍍厚
由于真空鍍鋁薄膜上的鍍鋁層非常薄,因此不能用常規的測厚儀器檢測其厚度,常用的檢測方法如下:
①電阻法。電阻法是利用歐姆定律來對鍍鋁層的厚度進行測量,根據歐姆定律: R=pXL/S 單位面積鍍鋁薄膜的電阻值越小,其鍍鋁層的厚度越厚,反之則越薄。
電阻法檢測鍍鋁層的厚度用表面電阻來表示,單位是Q,數值越大說明鍍鋁層厚度越薄,一般真空鍍鋁薄膜的表面電阻值為1.0~2.5Q。
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真空鍍膜表面處理工藝后鋁型材的特征
磨砂面料型材:磨砂面鋁型材避免了光亮的鋁合金型材在建筑裝飾中存在環境、條件下會形成光的干擾的缺點,它的表面如錦緞一樣細膩柔和,很受市場的青睞,但現有的磨砂材須克服表面砂粒不均勻,并能看到模紋的不足。
PVD鍍膜技術的原理?
?PVD鍍膜(離子鍍膜)技術,其具體原理是在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。