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              無(wú)縫管拋光廠性價(jià)比高 棫楦金屬材料有限公司

              發(fā)布時(shí)間:2020-12-31 07:09  

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              棫楦金屬材料有限公司成立于2010年,公司具有全自動(dòng)電解出產(chǎn)線4條,手動(dòng)電解出產(chǎn)線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主,很大工件電解拋光規(guī)范:2300*1100*1000,所加工產(chǎn)品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。加工后的產(chǎn)品完全可以經(jīng)過(guò):ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗(yàn)。化學(xué)拋光溶液經(jīng)使用之后,溶液內(nèi)金屬離子增多,拋光作用減弱,如果發(fā)現(xiàn)作用緩慢,氣泡減少,應(yīng)更換新藥液。

              微觀拋光或光澤化兩種拋光作用是不同的,以鋼在硝l酸磷酸型拋光液中的拋光為例說(shuō)明。在拋光過(guò)程中鋼的電極電位和溶解速度隨硝l酸濃度的變化情況如圖4-2所示。即隨著硝l酸濃度的增加,鋼材的電極電位也逐漸提高,同時(shí)溶解速度隨之減小。鋼的平滑化是由低電位區(qū)域的溶解作用形成的,而光澤化則是由高電位區(qū)域的溶解作用形成的。鋼表面電位的升高是由表面形成的一些穩(wěn)定的氧化膜固體所致,正是由于這種穩(wěn)定氧化膜的形成,使零件光澤化。整流器空載電壓:0—20v負(fù)載電壓(工作電壓):8—10v工作電壓低于6V,拋光速度慢,光亮度不足。而平滑化可能是由金屬離子或溶解生成物的擴(kuò)散層導(dǎo)致的。


              棫楦金屬材料有限公司成立于2010年,公司具有全自動(dòng)電解出產(chǎn)線4條,手動(dòng)電解出產(chǎn)線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主,很大工件電解拋光規(guī)范:2300*1100*1000,所加工產(chǎn)品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。

              化學(xué)拋光溶液的基本組成包括腐蝕劑、氧化劑和水。腐蝕劑是主要成份,如果不銹鋼在溶液中溶解,拋光便不能進(jìn)行。氧化劑和添加劑可抑制過(guò)程,使反應(yīng)朝有利于拋光的方向進(jìn)行。水對(duì)溶液濃度起調(diào)節(jié)作用,便于反應(yīng)產(chǎn)物的擴(kuò)散。將蠟均勻涂抹在一定漆面區(qū)域內(nèi)(單次拋光面積在一臂展長(zhǎng)寬范圍內(nèi)為宜)拋光機(jī)轉(zhuǎn)速控制在1200-2000轉(zhuǎn)之間。不銹鋼化學(xué)拋光能否順利進(jìn)行,取決于上述成分的合理配合。

              化學(xué)拋光溶液應(yīng)在燒杯中調(diào)配,根據(jù)試樣材料選擇化學(xué)拋光液配方,配溶液時(shí)應(yīng)用蒸餾水,藥品用化學(xué)純?cè)噭;瘜W(xué)拋光是靠化學(xué)試劑對(duì)樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。在溶解過(guò)程中試樣面表層會(huì)產(chǎn)生一層氧化膜,試樣表面凸出部分由于粘膜薄,金屬的溶解擴(kuò)展速度較慢,拋光后的表面光滑,但形成有小的起伏波形,不能達(dá)到十分理想的要求。化學(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單,可以處理形狀比較復(fù)雜的零件。溫室從室溫到90℃,時(shí)間自數(shù)秒到數(shù)分鐘,要根據(jù)材料、溶液成分經(jīng)實(shí)驗(yàn)后才能確定最l佳值。化學(xué)拋光溶液經(jīng)使用之后,溶液內(nèi)金屬離子增多,拋光作用減弱,如果發(fā)現(xiàn)作用緩慢,氣泡減少,應(yīng)更換新藥液。


              棫楦金屬材料有限公司首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主,很大工件電解拋光規(guī)范:2300*1100*1000,所加工產(chǎn)品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。加工后的產(chǎn)品完全可以經(jīng)過(guò):ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗(yàn)。

              流體拋光,是依靠高速流動(dòng)的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達(dá)到拋光的目的。常用方法有:磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動(dòng)力研磨等。

              不銹鋼電解拋光原理:工件上脫離的金屬離子與拋光液中的磷酸形成一層磷酸鹽膜吸附在工件表面,這種黏膜在凸起處較薄,凹處較厚,因凸起處電流密度高而溶解快,隨黏膜流動(dòng),凹凸不斷變化,粗糙表面逐漸被整平的過(guò)程。

              電 化 學(xué) 拋 光 過(guò)程分為兩步:(1)宏觀平整。溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散,材料表面幾何粗糙度下降,Ra>1μm;(2)微光平整。陽(yáng)極極化,表面光亮度提高,Ra<1μm。


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