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發布時間：2020-10-30 05:10
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PVD的意思是“物理氣相沉積”，這是指一種薄膜制備技術，該技術使用物理方法在真空條件下將材料沉積在要電鍍的工件上。PVD涂層技術主要分為三類，真空蒸發涂層，真空濺射和真空離子涂層。對應于三類PVD技術，相應的真空鍍膜設備還具有三種類型：真空蒸發鍍膜機，真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。在過去的十年中，真空離子鍍技術發展迅速，并且已成為當今zui先進的表面處理方法之一。我們通常所說的PVD涂層是指真空離子涂層，PVD鍍膜機通常是指真空離子鍍膜機。 次數用完API KEY 超過次數限制
一、鍍膜室極限壓力的測定1、試驗條件：（1）鍍膜室內沒有安放基材（空載狀態）；（2）用來測量的真空計應和設備本身是配套的，且為有效期之內；（3）在抽氣過程中，對鍍膜室用設備配套的加熱轟擊裝置進行除氣；（4）真空測量規管應裝于鍍膜室壁上或zui靠近鍍膜室的管道上；（5）對具有中擱板、上卷繞室和鍍膜室的卷繞鍍膜設備，應在兩室同時抽氣時對鍍膜室的壓力進行測試。2、測試方法：連續對鍍膜室抽氣24h這一時間段之間，測定出過程中的壓力zui低值，則定為該設備的極限壓力。如果壓力變化值在0.5h內沒有超過5％的波動，則取zui高測量表讀數值作為極限壓力值。 次數用完API KEY 超過次數限制
蒸發鍍膜過程中，從膜材表面蒸發的粒子以一定的速度在空間沿直線運動，直到與其他粒子碰撞為止。在真空室內，當氣相中的粒子濃度和殘余氣體的壓力足夠低時，這些粒子從蒸發源到基片之間可以保持直線飛行，否則，就會產生碰撞而改變運動方向。為此，增加殘余氣體的平均自由程，以減少其與蒸發粒子的碰撞幾率，把真空室內抽成高真空是必要的。當真空容器內蒸發粒子的平均自由程大于蒸發源與基片的距離(以下稱蒸距)時，就會獲得充分的真空條件。設蒸距(蒸發源與基片的距離)為L，并把L看成是蒸發粒子已知的實際行程，λ為氣體分子的平均自由程，設從蒸發源蒸發出來的蒸汽分子數為N0，在相距為L的蒸發源與基片之間發生碰撞而散射的蒸汽分子數為N1，而且假設蒸發粒子主要與殘余氣體的原子或分子碰撞而散射，則有N1/N0=1-exp(L/λ)(1) 次數用完API KEY 超過次數限制
