臺灣多功能化學氣相沉積值得信賴「多圖」

真空鍍膜設備真空熱處理是指金屬制件在真空或先抽真空后通惰性氣體條件下加熱，然后在油或氣體中淬火冷卻的技術。由于真空熱處理時，工件基本不氧化，鋼件不脫碳，采用通氣對流加熱方式還可使加熱均勻，減少表面和心部的溫差，從而也減少畸變。目前它已成為工模具不可或缺和的熱處理工藝。多功能化學氣相沉積

真空電鍍是真空鍍膜工藝的一項新發展。真空電鍍當高溫蒸發源通電加熱后，真空電鍍促使待鍍材料—蒸發料熔化蒸發。真空電鍍蒸發料粒子獲得一定動能，真空電鍍則沿著視線方向徐徐上升，后真空電鍍附著于工件外表上堆積成膜。

鍍膜是在表面鍍上非常薄的透明薄膜。目的是希望減少光的反射，增加透光率，抗紫外線并抑低耀光。此外，可延遲老化、變色的時間。

Parylene是一種保護性高分子材料，中文名，聚對二甲苯，派瑞林它可在真空下氣相沉積，Parylene活性分子的良好穿透力能在元件內部、底部，周圍形成無孔，厚度均勻的透明絕緣涂層。

派瑞林鍍膜的保護作用 1、抗酸堿腐蝕,能解決受酸性或堿性物質腐蝕的問題。 2、低水、氣體滲透性、具高屏障效果,能達到防潮、防水、防銹及減緩風化等作用。

真空鍍膜就是于真空室內，采用一定方法使材料凝聚成膜的工藝。

在真空條件下成膜有很多優點：可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發源與基板距離較遠和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低。

真空鍍膜設備普遍應用于工業生產，無論是小產品還是大產品、金屬制品還是塑膠制品、亦或者陶瓷、芯片、電路板、玻璃等產品，基本上所有需要進行表面處理鍍膜的都需要用到。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。

真空鍍膜設備普遍應用于工業生產，無論是小產品還是大產品、金屬制品還是塑膠制品、亦或者陶瓷、芯片、電路板、玻璃等產品，基本上所有需要進行表面處理鍍膜的都需要用到。在鍍膜方式上，比較普遍的是采用蒸發鍍或者磁控濺射鍍或者商子鍍。