電漿拋光加工廠家價格合理「棫楦不銹鋼表面處理」

等離子拋光作為一種新的拋光工藝,是不銹鋼拋光的一種發(fā)展趨勢。如果能好的利用等離子拋光將為我們節(jié)省很多時間和成本。

等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝——僅在工件表面的分子層與等離子反應，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi)，因此等離子納米拋光處理可以化學活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面在化學物質(zhì)。

拋光一般采用手工拋光,或者是手工拋光和等離子拋光結合。手工拋光即手工打磨,靠產(chǎn)品和麻,線,布輪的摩擦作用手工拋光工藝缺點明顯。手工拋光效率是很慢的,工人工資也很高。而且拋光是個對人體傷害很大的行業(yè)。拋光工人 的管理非常頭疼,工人自由散漫,流動性強。

等離子拋光也稱電漿拋光.主要用于五金件產(chǎn)品的拋光以及真空鍍膜的前處理,在表面處理行業(yè)屬于新的工藝,本文將在等離子拋光的工作原理,應用優(yōu)勢以及在表面處理行業(yè)的應用來說明它與真空鍍膜的協(xié)調(diào)性.

隨著環(huán)保意識日漸加強，傳統(tǒng)拋光工藝已難以滿足行業(yè)對、綠色環(huán)保、低成本生產(chǎn)的要求。倍亮拋光等離子系列為行業(yè)提供了一個、環(huán)保的表面優(yōu)化解決方案。

等離子拋光技術中利用穩(wěn)定、自由的等離子，可到達手工/機械研磨所到不了的遮蔽位，進行、無死角、高精度打磨，表面粗糙度Ra＜0.09μm。

傳統(tǒng)機械研磨由于利用離心力帶動顆粒打磨，工件不可抵抗地受到強大外力撞擊，往往導致出現(xiàn)變形的情況。加之因研磨顆粒較大難以到達工件遮蔽位，令很多細節(jié)得不到打磨。

主要技術要點是將之前的等離子拋光中的氣態(tài)粒子,原子、分子、原子團、氣離子和和電離子得到數(shù)萬倍的增加,而這些離子在對要拋光的工件進行物理摩擦時它們的平均活躍度得到了的增加,它的活躍程度遠遠高于材料表面的活躍度達數(shù)億倍,使鋁材表面的光潔度脫影而出。

等離子拋光原理

等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團、離子和電子。