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發(fā)布時(shí)間:2020-11-06 08:06  
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12頭地坪打磨拋光一體機(jī)介紹
12頭地坪打磨拋光一體機(jī)可處理各種環(huán)氧素地打磨、舊環(huán)氧地坪翻新、密封固化劑地坪研磨、拋光、晶面、清洗多功能一體機(jī)。
600拋光機(jī)參數(shù)
拋光機(jī)型號(hào):OK-600
工作寬度:540mm
磨盤:
300mm*2 電壓:380V
電流:8A 轉(zhuǎn)速:900pm/min
水箱:36L 選配加重:20kg
噪音值:≤60dba
壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng):有
拋光機(jī)重量:165kg
600型拋光機(jī)配置
OK-600型雙磨盤自吸塵研磨機(jī)是600型雙盤機(jī)增強(qiáng)版,600拋光機(jī)采用全鋼焊接,此機(jī)磨削速度快,功率4KW,可連續(xù)24小時(shí)工作,有六個(gè)磨頭,工作寬度是單盤機(jī)的2倍,是磨削大面積施工好幫手,可做基礎(chǔ)處理,也可中涂研磨,可外接吸塵器,是大型環(huán)氧工程施工的機(jī)械。因?yàn)槲覀儸F(xiàn)在很多的企業(yè)在加工時(shí)候的環(huán)境都是比較惡劣的,如果我們的設(shè)備不能夠達(dá)到這方面的要求,那么長(zhǎng)久的使用不僅會(huì)降低我們的工作效率,對(duì)我們的設(shè)備傷害也是非常大的。

其實(shí)拋光工藝顧名思義就是產(chǎn)品使用拋光設(shè)備和拋光資料對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行外表精細(xì)加工的詳細(xì)工藝。拋光后的產(chǎn)品具有高光潔度和光亮度。
現(xiàn)在的拋光技術(shù)分為:(滾筒拋光機(jī)、離心拋光機(jī)、磁力拋光機(jī)、振蕩拋光機(jī))機(jī)械拋光、電解拋光、化學(xué)拋光。
(滾筒拋光機(jī)、離心拋光機(jī)、磁力拋光機(jī)、振蕩拋光機(jī))機(jī)械12頭地坪打磨拋光一體機(jī)詳細(xì)介紹和原理:
大批量生產(chǎn)軸承鋼球時(shí),常選用滾筒拋光的辦法。 粗拋時(shí)將很多鋼球、研磨液和磨料放在容器中,機(jī)器啟動(dòng)后,使鋼球與磨料等在筒內(nèi)隨機(jī)地滾動(dòng)磕碰以達(dá)到去除外表凸鋒而減小外表粗糙度的意圖,
可去除0.01毫米左右的余量。 精拋時(shí)在木桶中裝入鋼球和精拋磨料、光澤劑,再次拋光一定的時(shí)間可得到耀眼光亮的外表。
精細(xì)線紋尺的拋光是將加工外表浸在拋光液中進(jìn)行的,拋光液由粒度為W5~W0.5的氧化鉻微粉和乳化液混合而成。
12頭地坪打磨拋光一體機(jī)拋光輪選用原料勻細(xì)經(jīng)脫脂處理的木材或特1制的細(xì)毛氈制成,其運(yùn)動(dòng)軌跡為均勻稠密的網(wǎng)狀,拋光后的外表粗糙度不大于Ra0.01微米,在擴(kuò)大40倍的顯微鏡下觀察不到任何外表陷。
12頭地坪打磨拋光一體機(jī)操作時(shí)應(yīng)注意哪些事項(xiàng)
12頭地坪打磨拋光一體機(jī)在應(yīng)用時(shí),試樣磨面與拋光盤應(yīng)平行面并勻稱地?cái)D壓在拋光盤上,外圓拋光機(jī)留意避免試樣飛出去和因壓力大而造成新磨痕。另外還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半經(jīng)方位往返挪動(dòng),以防止拋光紡織物部分損壞太快在拋光全過(guò)程時(shí)要持續(xù)加上微粉混液,使拋光紡織物維持一定濕度。12頭地坪打磨拋光一體機(jī)主要技術(shù)參數(shù)型號(hào):580工作寬度:580*580mm功率:7。
濕度太論壇會(huì)變?nèi)?2頭地坪打磨拋光一體機(jī)的拋光的磨痕功效,使試樣較硬相展現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬材料參雜物及生鐵中高純石墨相造成“曳尾”狀況;濕度太鐘頭,因?yàn)槟ゲ辽鸁釙?huì)使試樣提溫,潤(rùn)化功效減少,磨面無(wú)光澤,乃至出現(xiàn)黑,輕鋁合金則會(huì)拋傷表層。
以便做到粗拋的目地,規(guī)定轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速比較低,不必超出500r/min;專業(yè)的品質(zhì),滿意的服務(wù),在這里可以享受到其他公司沒(méi)有的待遇,歡迎您選擇我們的產(chǎn)品。12頭地坪打磨拋光一體機(jī)拋光時(shí)間理應(yīng)比除掉刮痕需要的時(shí)間長(zhǎng)些,由于也要除掉形變層。粗拋后磨面光潔,但暗淡無(wú)光,在光學(xué)顯微鏡下觀查有勻稱細(xì)膩的磨痕,尚需精拋清除。外圓拋光機(jī)精拋時(shí)轉(zhuǎn)盤速率可適度提升,拋光時(shí)間以拋去粗拋的損害層為宜。
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