五金鍍膜廠給您好的建議,東莞泰坦金屬制品

由水平調整的自準直儀發出一束激光穿過真空室的玻璃窗照射固定于工作臺上的反射鏡，在大氣環境下調變補償調節機構，

使反射光束進入自準直儀接收視場，記錄兩維角度偏差。真空鍍膜加工

按有限元計算的真空狀態下的補償量再次調整，顯然，此時的反射光束已遠離自準直儀接收視場，但一旦真空室進入真空狀態，

反射光束又重新進入自準直儀的接收視場，記錄此時的兩維角度偏差。前后兩次顯示的兩維角度偏差基本吻合。

真空鍍膜

②光密度法。光密度(OD)定義為材料遮光能力的表征。光密度沒有量綱單位，是一個對數值，通常僅對鍍鋁薄膜和珠光膜進行光密度測量。 光密度是入射光與透射光比值的對數或者說是光線透過率倒數的對數。

計算公式為： OD=lg（入射光／透射光）或OD=lg（1／透光率） 通常鍍鋁膜的光密度值為l～3(即光線透過率為0.10/0~10%)，數值越大鍍鋁層越厚。 光密度OD值、方阻值對應的鋁層厚度如表6-7所示。 表6-70D值、方阻值和鋁層厚度對照表 光密度 OD值 電阻值 Ohm/Square方阻值 鋁層厚度 A 1.6 3 320 1.8 2.7 360 2.0 2.35 400 2.2 2.05 440 2.4 1.8 480 2.6 1.55 520 2.8 1.3 560 3.0 1.0 600

真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應用場合非常豐富。總體來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優異的電磁屏蔽和導電效果。

真空鍍膜中用到的離子源種類較多。主要有:高頻離子源，弧放電離子源，kaufman離子源，射頻離子源，霍爾離子源，冷陰極離子源，電子回旋離子源，陽極層離子源，感應耦合離子源可能還有很多其它類型離子源未被提到。