離子鍍膜機廠家優惠報價,至成鍍膜機生產廠家

磁控濺射法定義是什么？

磁控濺射法是在高真空充入適量的Ar氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽極（鍍膜室壁）之間施加幾百K直流電壓，在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電，使Ar氣發生電離。Ar離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面，將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。

離子濺射鍍膜機

多靶離子束濺射鍍膜機系統在光學薄膜沉積應用中處于較高地位。多靶離子束濺射鍍膜機是當今僅存的在同一系統可互換使用行星型，簡單旋轉型或可翻轉型基片裝置的系統。

在通信應用上，能用于沉積高產值的200，100和50GHz具有窄通帶,寬截止頻帶,高隔離度,低插損特性的DWDM濾波器，滿足為嚴格的性能指標。在其它光學應用上，多靶離子束濺射鍍膜機能用于沉積增透膜，復雜的非四分之一波長膜層，以及吸收和散射低于百萬分位的超低損耗激光鏡。

光學真空鍍膜機薄膜根據其用途分類、特性與應用可分為哪些膜

光學真空鍍膜機薄膜根據其用途分類、特性與應用可分為：反射膜、增透膜/減反射膜、濾光片、偏光片/偏光膜、補償膜/相位差板、配向膜、擴散膜/片、增亮膜/棱鏡片/聚光片、遮光膜/黑白膠等。相關衍生的種類有光學級保護膜、窗膜等。

光學真空鍍膜機光學薄膜的特點是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發生躍變，但在膜層內是連續的;可以是透明介質，也可以是吸收介質;可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實際應用的薄膜要比理想薄膜復雜得多。這是因為：制備時，薄膜的光學性質和物理性質偏離大塊材料，起表面和界面是粗糙的，從而導致光束的漫反射;膜層之間的相互滲透形成擴散界面;由于膜層的生長、結構、應力等原因，形成了薄膜的各種向異性;膜層具有復雜的時間效應。

真空鍍膜機PVD鍍膜常規知識介紹

真空鍍膜機PVD技術可以應用到海上用品、首飾、工藝品、門窗五金、廚衛五金、燈具、海上用品、首飾、工藝品，及其它裝飾性制品的加工制造，應用是非常的廣泛，很多客戶采購設備時，對這方面的相關知識也是非常的感興趣，今天至成真空小編，為大家介紹一下真空鍍膜機PVD鍍膜常規知識，希望能幫助大家提升相關知識和技能。

PVD鍍膜(離子鍍膜)技術，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。

PVD鍍膜膜層的特點,采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數)、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點，膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

真空鍍膜機PVD鍍膜技術目前主要應用的行業,PVD鍍膜技術的應用主要分為兩大類：裝飾鍍膜和工具鍍膜。裝飾鍍的目的主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤同時使工件更耐磨耐腐蝕延長其使用壽命;這方面主要應用五金行業的各個領域，如門窗五金、鎖具、衛浴五金等行業。工具鍍的目的主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數，提高工件的使用壽命;這方面主要應用在各種刀剪、車削刀具(如車刀、刨刀、銑刀、鉆頭等等)、各種五金工具(如螺絲刀、鉗子等)、各種模具等產品中

PVD真空鍍膜機鍍膜工藝原理

PVD即物理氣相沉積，分為：真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜和真空濺射鍍；通常說的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發鍍膜。PVD真空鍍膜機鍍膜工藝原理分為以下三種情況：

（1）真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發，然后沉積在基體表面上，蒸發的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發成氣相，然后沉積在基體表面，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術。

（2）濺射鍍膜基本原理：充Ar（Ar）氣的真空條件下，使Ar氣進行輝光放電，這時Ar（Ar）原子電離成Ar離子（Ar），Ar離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發生碰撞，使運動方向隨機，沉積的膜易于均勻。

（3）離子鍍基本原理：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術，使鍍料原子部分電離成離子，同時產生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負偏壓。這樣在深度負偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。