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              磁控濺射鍍膜機(jī)公司值得信賴「沈陽鵬程」

              發(fā)布時(shí)間:2021-09-15 20:48  

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              小型自動(dòng)磁控濺射儀

              沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)磁控濺射產(chǎn)品供應(yīng)商,我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

              1. 濺射室極限真空度:≤6.6×10-6 Pa

              2. 系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0×10-7Pa.l/S

              3. 系統(tǒng)從大氣開始抽氣:濺射室30分鐘可達(dá)到6.6×10-4 Pa;

              4. 系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度:≤5Pa

              5. 濺射真空室1套,立式上開蓋結(jié)構(gòu),尺寸不小于Ф300mm×300mm,全不銹鋼結(jié)構(gòu),弧焊接,表面進(jìn)行電化學(xué)拋光,內(nèi)含防污內(nèi)襯,可內(nèi)烘烤到100~150℃,接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封,腔體內(nèi)有照明系統(tǒng)

              6. 磁控濺射系統(tǒng) 3套, 提供3塊測試靶材。鍍膜不均勻度≤5%

              7. 旋轉(zhuǎn)基片臺(tái) 1套,樣品臺(tái)可放置不小于100mm樣品1片,具有連續(xù)旋轉(zhuǎn)功能,旋轉(zhuǎn)0—30轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)。基片加熱溫度:室溫—500°C連續(xù)可調(diào),由熱電偶閉環(huán)反饋控制,加熱電源配備控溫表,控溫方式為PID自動(dòng)控溫及數(shù)字顯示

              8. 觀察窗口及法蘭接口部件 1套

              9. 工作氣路1套,包含:100SCCM、20SCCM質(zhì)量流量控制器、CF16截止閥、管路、接頭等共2路; DN16充氣閥、管路、接頭等2路;

              10. 抽氣機(jī)組及閥門、管道 1套,包含1臺(tái)進(jìn)口復(fù)合分子泵及變頻控制電源(680L/s ,德國普發(fā)Hipace700分子泵);1臺(tái)機(jī)械泵(4L/S) ,1臺(tái)DN40氣動(dòng)截止閥,機(jī)械泵與真空室之間的旁抽管路1套,CC150氣動(dòng)閘板閥1臺(tái)(用于復(fù)合分子泵與真空室隔離),節(jié)流閥1臺(tái),DN40旁抽氣閥1臺(tái),壓差式充氣閥1臺(tái);方便性:設(shè)備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式,接線及安裝調(diào)試簡單,既保證了設(shè)備使用方便又保證了設(shè)備的整潔。管道采用不銹鋼三通及波紋管,

              11. 安裝機(jī)臺(tái)架組件 1套,由方鋼型材焊接成,快卸圍板表面噴塑處理,機(jī)臺(tái)表面用不銹鋼蒙皮裝飾,四只腳輪,可固定,可移動(dòng)。



              什么是磁控濺射?

              磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對(duì)帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

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              磁控濺射介紹

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              用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校帢O),等離子體和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體(如陶瓷),則回路斷了。于是人們采用高頻電源,回路中加入很強(qiáng)的電容,這樣在絕緣回路中靶材成了一個(gè)電容。但高頻磁控濺射電源昂貴,濺射速率很小,同時(shí)接地技術(shù)很復(fù)雜,因而難大規(guī)模采用。1臺(tái)機(jī)械泵(4L/S),1臺(tái)DN40氣動(dòng)截止閥,機(jī)械泵與真空室之間的旁抽管路1套,CC150氣動(dòng)閘板閥1臺(tái)(用于復(fù)合分子泵與真空室隔離),節(jié)流閥1臺(tái),DN40旁抽氣閥1臺(tái),壓差式充氣閥1臺(tái)。為解決此問題,發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶,加入氣和反應(yīng)氣體如氮?dú)饣蜓鯕狻.?dāng)金屬靶材撞向零件時(shí)由于能量轉(zhuǎn)化,與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。



              濺射鍍膜的特點(diǎn)

              濺射就是從靶表面撞擊出原子物質(zhì)的過程。濺射產(chǎn)生的原子或分子沉積到基體(零件)表面的過程就是濺射鍍膜。

              濺射鍍膜與真空鍍膜相比,有如下特點(diǎn):

              1.任何物質(zhì)都可以濺射, 尤其是高熔點(diǎn)金屬、低蒸氣壓元素和化合物;

              2.濺射薄膜與襯底的附著性好;

              3.濺射鍍膜的密度高,孔少,膜層純度高;

              4.膜層厚度可控性和重復(fù)性好。

              以上就是為大家介紹的全部內(nèi)容,希望對(duì)大家有所幫助。如果您想要了解更多磁控濺射產(chǎn)品的知識(shí),歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。







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