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發布時間:2020-12-07 08:06  
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磁控濺射技術鍍膜
磁控濺射技術鍍膜是一種重要的物理的氣相沉積鍍膜技術,這種工藝可工業化批量生產。本文重點探討了磁控濺射在光學鍍膜中的應用,包括膜層設計和鍍膜工藝。
光學鍍膜設計
(1)減反射膜
減反射也稱增透膜,這種膜主要鍍在透明低折射率基底上,如玻璃上鍍減反射膜,常見的膜層結構采用高、低折射率膜層疊加而成
(2)彩色鍍膜 彩色鍍膜主要也是在玻璃等透明基底上鍍膜,其膜層材料和結構類似減反射鍍膜。這種玻璃在可見光下透射和反射的顏色不同。
3)漸變反射膜 漸變反射膜是一種在不同角度觀察,反射的顏色不同的膜層。這種膜層可以鍍在玻璃,也可以鍍在金屬基底。
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我國真空鍍膜機行業發展現狀和前景分析
創世威納——專業真空鍍膜機供應商,我們為您帶來以下信息。
真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術,是表面工程技術領域的重要組成部分。隨著全球制造業高速發展,真空鍍膜技術應用越來越廣泛。到了80年代,雖然他的出現僅僅十幾年間,它就從實驗室中脫穎而出,真正地進入了工業大生產的領域。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、制藥等行業的發展來看,對真空鍍膜設備、技術、材料需求都在不斷增加,包括制造大規模集成電路的電學膜;數字式縱向與橫向均可磁化的數據紀錄儲存膜;充分展示和應用各種光學特性的光學膜;計算機顯示用的感光膜;TFT、PDP平面顯示器上的導電膜和增透膜;建筑、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜;包裝領域用防護膜、阻隔膜;裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜;工、模具表面上應用的耐磨超硬膜;納米材料研究方面的各種功能性薄膜等。
我國鍍膜機械,經過了幾十年發展,形成了門類齊全、布局合理,品種配套,真空鍍膜技術水平與鍍膜工業發展基本適應的體系,真空鍍膜設備已經不能再叫新行業了,其是一個有創新能力的成熟行業,鍍膜技術從重污染轉為輕污染直至以后的無污染,創新是前提,隨著更新型節能環保的真空機械設備研發必將改變整個工業。但高頻磁控濺射電源昂貴,濺射速率很小,同時接地技術很復雜,因而難大規模采用。
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磁控濺射鍍膜機的優勢
1.實用性:設備集成度高,結構緊湊,占地面積小,可以滿足客戶實驗室空間不足的苛刻條件;通過更換設備上下法蘭可以實現磁控與蒸發功能的轉換,實現一機多用;
2.方便性:設備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式,接線及安裝調試簡單,既保證了設備使用方便又保證了設備的整潔;
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