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              商丘市金屬表面鍍鈦報價免費咨詢

              發布時間:2020-07-27 11:15  

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              PVD是英文Physical VaporDeition(物理氣相沉積)的縮寫,是指在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發或離子鍍等技術,在基材上沉積形成不同顏色和質感的薄膜。帶正電荷的蒸發料離子,在陰極吸引下,隨同離子一同沖向工件,當拋鍍于工件表面上的蒸發料離子超過濺失離子的數量時,則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。PVD膜層賦予產品表面金屬質感和豐富的顏色,并改善耐磨、耐腐蝕性,延長壽命。已經廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、建筑五金、模具刀具等產品。




              PVD (Physical Vapor Deition) 即物理氣相沉積,分為:真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。6、表面有彩虹紋,是過多使用洗滌劑或油引起,洗滌時用溫水中性洗滌劑可洗去。我們通常所說的PVD鍍膜 ,指的就是真空離子鍍膜;通常說的NCVM鍍膜,就是指真空蒸發鍍膜和真空濺射鍍。真空蒸鍍基本原理:在真空條件下,使金屬、金屬合金等蒸發,然后沉積在基體表面上,蒸發的方法常用電阻加熱,電子束轟擊鍍料,使蒸發成氣相,然后沉積在基體表面,歷,真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術。


              此外,多弧鍍涂層顏色較為穩定,尤其是在做 TiN 涂層時,每一批次均容易得到相同穩定的金黃色,令磁控濺射法望塵莫及。6、由于不銹鋼表面加工工序的復雜性,每一張板材的每一道工序是不可能控制到一致的,這就直接影響到終成品的表面色澤,這也是目前該行業技術上的一個瓶頸。多弧鍍的不足之處是,在用傳統的 DC 電源做低溫涂層條件下,當涂層厚度達到0.3μm 時,沉積率與反射率接近,成膜變得非常困難。而且,薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個不足之處是,由于金屬是熔后蒸發,因此沉積顆粒較大,致密度低,耐磨性比磁控濺射法成膜差。


              現有鍍膜工藝,多數均要求事先對工件進行嚴格清洗,既復雜又費事。電弧蒸發鍍膜在高真空下通過兩導電材料制成的電極之間產生電弧放電,利用電弧高溫使電極材料蒸發。然而,離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用,并且這一作用還一直延續于整個鍍膜過程。清洗效果,能使鍍層直接貼近基體,有效地增強了附著力,簡化了大量的鍍前清洗工作。離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面,使大量的電能在工件表面轉換成熱能,從而促進了表層組織的擴散作用和化學反應。


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