脈沖激光沉積裝置廠家價格合理 沈陽鵬程

脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積，是一種用途廣泛的薄膜沉積技術。脈沖激光快速蒸發靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的獨特之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時，工作壓力的動態范圍很寬，達到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有獨特功能的納米結構和納米顆粒。脈沖激光沉積系統配置介紹想要了解更多脈沖激光沉積的相關內容，請及時關注沈陽鵬程真空技術有限責任公司網站。

另外，PLD 是一種“數字”技術，在納米尺度上進行工藝控制（A°/pulse）。

沈陽鵬程真空技術有限責任公司以誠信為首 ,服務至上為宗旨。公司生產、銷售脈沖激光沉積,公司擁有強大的銷售團隊和經營理念。想要了解更多信息，趕快撥打圖片上的熱線電話！

脈沖激光沉積系統的特點有哪些？

?  超高真空不銹鋼腔體

?  可集成熱蒸發源或濺射源

?  可旋轉的耐氧化基片加熱臺

?  流量計或針閥準確控制氣體流量

?  標準真空計?  干泵與分子泵

?  可選配不銹鋼快速進樣室

?  可選配基片-靶材距離自動控制系統

?  是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的較佳設備

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