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磁控濺射法定義是什么？

磁控濺射法是在高真空充入適量的Ar氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽極（鍍膜室壁）之間施加幾百K直流電壓，在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電，使Ar氣發生電離。Ar離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面，將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。

離子濺射鍍膜機

多靶離子束濺射鍍膜機系統在光學薄膜沉積應用中處于較高地位。多靶離子束濺射鍍膜機是當今僅存的在同一系統可互換使用行星型，簡單旋轉型或可翻轉型基片裝置的系統。

在通信應用上，能用于沉積高產值的200，100和50GHz具有窄通帶,寬截止頻帶,高隔離度,低插損特性的DWDM濾波器，滿足為嚴格的性能指標。在其它光學應用上，多靶離子束濺射鍍膜機能用于沉積增透膜，復雜的非四分之一波長膜層，以及吸收和散射低于百萬分位的超低損耗激光鏡。

真空鍍膜機給物件鍍膜,為什么要在真空狀態下進行?

真空鍍膜機已經廣泛應用于生活中，大家對它也是耳熟能詳，也了解他的作用和用處，包括他的應用領域，但是很多人卻不太了解，真空鍍膜機在給物件鍍上一層膜的時候，為什么要選擇在真空狀態下進行：

大家都知道物件鍍膜在常壓下蒸鍍膜料無法形成理想的薄膜，事實上，如在壓力不夠低(或者說真空度不夠高)的情況下同樣得不到好的結果，比如在10托數量級下蒸鍍鋁，得到的膜層不但不光亮，甚至發灰、發黑，而且機械強度極差，用松鼠毛刷輕輕一刷即可將鋁層破壞。蒸鍍必須在一定的真空條件下進行，這是因為：

（1）較高的真空度可以保證汽化分子的平均自由程大于蒸發源到基底的距離。

由于氣體分子的熱運動，分子之間的碰撞也是極其頻繁的，所以盡管氣體分子運動的速度相當的高(可達每秒幾百米)，但是由于它在前進的過程中要與其它分子多次碰撞，一個分子在兩次連續碰撞之間所走的距離被稱為它的自由程，而大量分子自由程的統計平均值就被稱為分子的平均自由程。

（2）在較高的真空度下可以減少殘余氣體的污染在真空度不太高的情況下，真空室內含有眾多的殘余氣體分子(氧、氮、水及碳氫化合物等)，它們能給薄膜的鍍制帶來極大的危害。它們與汽化的膜料分子碰撞使平均自由程變短；它們與正在成膜的表面碰撞并與之反應；它們隱藏在已形成的薄膜中逐漸侵蝕薄膜；它們與蒸發源高溫化合減少其使用壽命；它們在已蒸發的膜料表面上形成氧化層使蒸鍍過程不能順利進行。

PVD真空鍍膜機鍍膜工藝原理

PVD即物理氣相沉積，分為：真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜和真空濺射鍍；通常說的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發鍍膜。PVD真空鍍膜機鍍膜工藝原理分為以下三種情況：

（1）真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發，然后沉積在基體表面上，蒸發的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發成氣相，然后沉積在基體表面，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術。

（2）濺射鍍膜基本原理：充Ar（Ar）氣的真空條件下，使Ar氣進行輝光放電，這時Ar（Ar）原子電離成Ar離子（Ar），Ar離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發生碰撞，使運動方向隨機，沉積的膜易于均勻。

（3）離子鍍基本原理：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術，使鍍料原子部分電離成離子，同時產生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負偏壓。這樣在深度負偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。

磁控真空鍍膜機做漸變色原理

現在很多物件都鍍有漸變色，顏色很絢麗也很顯目，現在很多牌子手機殼也應用了這種漸變色，因此，漸變色也越來越受人們關注，漸變色制作原理也激起了大家的興趣，今天至成小編為大家詳細介紹一下真開工鍍膜機做漸變色的原理和方法，希望能幫助到大家。

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。而漸變色的工藝制法一般用的磁控濺射鍍膜設備，目前華為、聯想等多款手機漸變色外殼都采用了PVD真空漸變鍍膜工藝。

磁控濺射真空鍍膜設備是現有產品在真空條件下鍍膜使用的多的一種設備，一臺完整的磁控濺射真空鍍膜機是由多部分系統組成的，每個系統可以完成不同的功能，從而實現終的高品質鍍膜，磁控濺射鍍膜其組成包括真空腔、機械泵、真空測試系統、油擴散泵、抽真空系統、冷凝泵以及成膜控制系統等等。

磁控濺射真空鍍膜機的主體是真空腔，真空腔大小是由加工產品所決定，磁控濺射鍍膜的大小能定制，腔體一般是用不銹鋼材料制作，要求結實耐用不生銹等。磁控濺射鍍膜真空腔有許多連接閥用來連接各種輔助泵。

磁控濺射鍍膜成膜控制系統能采用不同方式，比如固定鍍制時間、目測、監控以及水晶震蕩監控等。真空鍍膜機、真空鍍膜設備鍍膜方式也分多種工藝，常用的有離子蒸發鍍膜和磁控濺射鍍膜。磁控濺射方式鍍制的膜層附著力強，膜層的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料。