臺灣LED真空鍍膜設備來電咨詢“本信息長期有效”

多弧離子PVD鍍膜設備　　

腔體結構：  立式前開門，臥式前開門，后置真空獲得系統　　

材質用料：  腔體采用SUS304不銹鋼材質　　

離子弧源：  依據設備大小不同配備多套弧電源系統　　

偏壓電源：  配備大功率單級脈沖偏壓電源　　

多弧靶材：  標配多套鈦靶或不銹鋼靶材　　

轉動系統： 變頻調速，公自轉結合，可采用上傳動或下傳動方式　　

真空系統（裝飾鍍膜設備Decorative coating）：擴散泵（可選分子泵） 羅茨泵 機械泵 維持泵 深冷系統（可選）

氣相沉積是一種在基體表面形成功能膜層的技術，它是利用物質在氣相中產生的物理或(及)化學反應而在產品表面沉積單層或多層的、單質或化合物的膜層，從而使產品表面獲得所需的各種優異性能。

氣相沉積作為一種表面鍍膜方法，其基本步驟有需鍍物料氣相化->輸運->沉積。它的主要特點在于不管原來需鍍物料是固體、液體或氣體，在輸運時都要轉化成氣相形態進行遷移，終到達工件表面沉積凝聚成固相薄膜。

CVD 制備銥高溫涂層人們之所以對作涂層材料感興趣是由于這類金屬優良的性能 。銥具有較強的能力和較高的熔點而受到重視, 是一種較理想的高溫涂層材料 。

20 世紀 60 年代以來, 世界航空航天技術飛速發展,一些高熔點材料(如石墨碳和鎢鉬鉭鈮等難熔金屬)被大量使用,但這些材料的一個共同的致命缺點是能力差。

60 年代美國材料實驗室(AFML)對石墨碳的銥保護涂層進行過大量的研究, 采用了多種成型方法制備銥涂層 ,其中包括化學氣相沉積法 。雖然沒有制備出質量令人滿意的厚銥涂層, 但仍認為 CVD 是一種非常有希望且值得進一步研究的方法。