池州防水納米涂層質量放心可靠,菱威派瑞林鍍膜工廠

可耐5000V且可隨厚度增加而持續提高

絕緣性能不會受環境溫度和濕度的影響；

Parylene 的介電常數和介電損耗均非常低且不受吸潮的影響；

Parylene 的高純度、表面憎水性及不存在任何痕量的離子污染又保證了極高的體積電阻率和表面電阻率；

極低的高頻損耗，特別適合超高頻器件。

用環氧樹脂材料進行電泳涂敷，但電泳涂敷時工件表面必須有一掛點，掛點的修補不僅費工費時，而且質量難以保證用。另外當繞線器件很小時，使用傳統膠帶做絕緣就很困難。用Parylene涂層能夠有效此問題并具有大量生產降低成本的優勢 。

       常用永磁體有釹鐵硼磁體。即磁體是通過粉末冶金工藝燒結成型的產品，因其中的富釹相、釹鐵硼主體及邊界很容易形成晶間腐蝕，并且稀土元素釹性質活潑，因而使得整個釹鐵硼材料的耐蝕性極差，在潮濕環境下極易氧化生銹腐蝕。

       目前，常見的釹鐵硼磁體的防腐方法主要有電鍍、磷化、電泳等。但這些常規電鍍方法普遍存在各種各樣的問題，例如工藝穩定性不好，適用范圍較窄，防腐能力不足，設備投資大，運行成本高等問題。

       現在有采用 大型 噴涂 、直接 浸漬 、小型 設備 噴涂 、淋涂、刷涂 等多種 方式 ，各有 優缺點 ，應選擇 既節約成本，操作 簡單 ，又能保證質量 的方法 ，盡量 不對N多參數 的涂料 進行 調整 ，調制 工序 復雜 的涂料 產品 ，不可控因素較多的涂料 產品 也不易 選擇 ，如涂布 過程 中經常 起泡 ，或涂膜 速度 過慢 等。

       同時 還要 采用 多種 方法 進行 對比 試驗 ，在有限 的條件 下盡量 挑選 幾種 涂敷 方式 進行 試驗 比較 ，從工序 、工時 、標準化 程度 、結膜 成功率 、涂敷 均勻度 、干燥 時間 、操作 難度 等方面 入手 ，找出 比較 適宜 的進行 小批量 試產 ，然后 推廣 到大批量 應用 。

       原子層沉積（ALD）是一種沉積原子級薄膜的技術，它是以一種連續脈沖的方式在樣品表面和反應前驅體材料之間發生化學反應。與傳統的等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）技術相比，沉積速率相對較慢，但是它可在高深寬比的溝槽和通孔結構上沉積均勻薄膜。另外，在原子層沉積過程中，樣品表面上沒有物理和電學損傷，而在PECVD過程中由于離子轟擊這種損傷卻不可避免。此外，通過使用不同的反應材料可沉積各種薄膜（氧化物，氟化物，氮化物，金屬等）。